[发明专利]增加设置在照射设备中的聚集器光学器件的操作寿命的方法及相应的照射设备无效

专利信息
申请号: 200880117271.8 申请日: 2008-11-19
公开(公告)号: CN101868764A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: P·辛克 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 龚海军;刘鹏
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 增加 设置 照射 设备 中的 聚集 光学 器件 操作 寿命 方法 相应
【权利要求书】:

1.一种增加设置在照射设备中的聚光器单元(3,6)的操作寿命的方法,所述照射设备至少包括

-发射光学辐射特别是极紫外辐射或软X射线的辐射源(1),所述辐射源(1)生成与所述聚光器单元(3,6)的光学表面碰撞的物质和/或粒子,

-所述聚光器单元(3,6),其形成由所述辐射源(1)发射的所述辐射的一部分的辐射束,和

-碎片减缓单元(37),其减少与所述聚光器单元(3,6)的光学表面碰撞的所述物质和/或粒子的量,

所述方法包括

在所述设备的操作期间和/或在操作间歇中移动所述聚光器单元(3,6),使得与没有这样的移动相比,由所述物质和/或粒子与所述聚光器单元(3,6)的所述光学表面的碰撞引起的沉积或老化效果在所述光学表面上被分布得更均匀。

2.根据权利要求1的方法,其中所述聚光器单元(3,6)具有光轴(4),并且围绕它的光轴(4)被旋转。

3.根据权利要求1的方法,其中所述聚光器单元(3,6)在所述设备的操作期间连续地被旋转。

4.根据权利要求1的方法,其中所述聚光器单元(3,6)在所述设备的操作期间或在操作间歇中以限定的角度逐步地被旋转。

5.根据权利要求1的方法,其中所述聚光器单元(3,6)朝向所述辐射源(1)或以所述辐射源(1)的相反方向或垂直于所述聚光器单元(3,6)的光轴(4)被移动。

6.根据权利要求1的方法,其中所述聚光器单元(3,6)取决于所述设备的操作参数而移动。

7.根据权利要求1的方法,其中所述聚光器单元(3,6)取决于被设置成测量所述辐射束光强度或光分布的至少一个光学传感器(9)的测量数据而移动。

8.一种照射设备,其至少包括:

-发射光学辐射特别是极紫外辐射或软X射线的辐射源(1),所述辐射源(1)生成与所述设备内部的光学表面碰撞的物质和/或粒子,

-聚光器单元(3,6),其形成由所述辐射源(1)发射的所述辐射的一部分的辐射束,和

-碎片减缓单元(37),其减少与所述聚光器单元的光学表面碰撞的所述物质和/或粒子的量,

-其中所述聚光器单元(3,6)被安装在驱动单元(7)上,所述驱动单元(7)被设置和设计成移动所述聚光器单元(3,6)。

9.根据权利要求8的设备,其中所述聚光器单元(3,6)具有光轴(4),并且所述驱动单元(7)被设计成围绕所述光轴(4)旋转所述聚光器单元(3,6)。

10.根据权利要求8的设备,其中所述驱动单元被设置和设计成朝向所述辐射源(1)或以所述辐射源(1)的相反方向或垂直于所述聚光器单元(3,6)的光轴(4)移动所述聚光器单元(3,6)。

11.根据权利要求8的设备,其进一步包括控制单元(8),控制单元(8)控制所述驱动单元(7)以执行所述聚光器单元(3,6)的所述移动。

12.根据权利要求11的设备,其中所述控制单元(8)被设计成基于所述设备的操作参数来控制所述驱动单元(7)。

13.根据权利要求11的设备,其中所述控制单元(8)被设计成基于设置成测量所述辐射束的光强度或光分布的至少一个光学传感器(9)的测量数据来控制所述驱动单元(7)。

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