[发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜的形成方法以及液晶显示元件有效

专利信息
申请号: 200880117770.7 申请日: 2008-11-20
公开(公告)号: CN101874225A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 秋池利之 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;C08G77/38;C08L79/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 熊玉兰;孙秀武
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 取向 形成 方法 以及 液晶显示 元件
【权利要求书】:

1.液晶取向剂,其特征在于,含有射线敏感性聚硅氧烷,所述射线敏感性聚硅氧烷是使选自具有下式(1)表示的重复单元的聚硅氧烷、其水解物和水解物的缩合物中的至少一种与具有选自烯基和炔基中的至少一种基团的桂皮酸衍生物反应得到的,

(式(1)中,Y1表示羟基、碳原子数为1~10的烷氧基、碳原子数为1~20的烷基或碳原子数为6~20的芳基)。

2.权利要求1所述的液晶取向剂,其中,所述桂皮酸衍生物是具有选自烯基和炔基中的至少一种基团和下式表示的二价基团的化合物,

3.权利要求2所述的液晶取向剂,其中,所述桂皮酸衍生物为下式(2)表示的化合物或下式(3)表示的化合物,

(式(2)中,R1是碳原子数为1~40的烷基或含有脂环式基团的碳原子数为3~40的一价有机基团,其中上述烷基的氢原子的一部分或全部可以被氟原子取代,R2是单键、氧原子、-COO-或-OCO-,R3是二价芳香族基团、二价脂环式基团、二价杂环式基团或二价稠环式基团,R4是单键、氧原子、*-COO-或*-OCO-(其中,带有“*”的结合键与R3结合),R5是单键、亚甲基或碳原子数为2~10的亚烷基,R5是单键时,R6是-CH=CH2或-C≡CH,R5是亚甲基或亚烷基时,R6是-CH=CH2、-C≡CH或-OOC-CH=CH2,R7是氟原子或氰基,X1是氧原子或下式表示的基团,a是0~3的整数,b是0~4的整数),

(其中,带有“*”的结合键为R5-R6一侧);

(式(3)中,R8是碳原子数为1~40的烷基或含有脂环式基团的碳原子数为3~40的一价有机基团,其中上述烷基的氢原子的一部分或全部可以被氟原子取代,R9是氧原子、-COO-或-OCO-,R10是二价芳香族基团、二价杂环式基团或二价稠环式基团,R11是单键、-OCO-(CH2)e-*或-O-(CH2)g-*(其中,带有“*”的结合键与R12结合),其中e和g分别是0~10的整数,R12是-CH=CH2、-C≡CH或-OOC-CH=CH2,R13是氟原子或氰基,X2是氧原子、亚苯基或下式表示的基团,c是0~3的整数,d是0~4的整数),

(其中,带有“*”的结合键与R8结合)。

4.权利要求1~3中任意一项所述的液晶取向剂,其进一步含有选自聚酰胺酸和聚酰亚胺中的至少一种聚合物。

5.权利要求1~3中任意一项所述的液晶取向剂,其进一步含有选自具有下式(4)表示的重复单元的聚硅氧烷、其水解物和水解物的缩合物中的至少一种,

(式(4)中,X为羟基、碳原子数为1~20的烷基、碳原子数为1~20的芳基或碳原子数为1~6的烷氧基,Y2为羟基或碳原子数为1~10的烷氧基)。

6.液晶取向膜的形成方法,其特征在于,在基板上涂布权利要求1~3中任意一项所述的液晶取向剂形成涂膜,对该涂膜用射线进行辐照。

7.液晶显示元件,其特征在于,具有由权利要求1~3中任意一项所述的液晶取向剂形成的液晶取向膜。

8.射线敏感性聚硅氧烷,其特征在于,是使选自具有上式(1)表示的重复单元的聚硅氧烷、其水解物和水解物的缩合物中的至少一种与具有选自烯基和炔基中的至少一种基团的桂皮酸衍生物反应得到的。

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