[发明专利]打印机头和打印机盘清洁组合物及其使用方法

权利要求书

1.一种从空气支承面除去抗蚀剂掩模和残余物的方法，该方法包括使所述表面与一种组合物接触，所述组合物包含：

约5-50重量％的含氧铵化合物，

约10-80重量％的至少一种能与所述含氧铵化合物混溶的碱性组分，以及余量的水，

其中所述残余物包括来自蚀刻碳化钛和氧化铝的残余物，

所述组合物的pH大于7。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述组合物还包含约5-30重量％的至少一种螯合剂。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述至少一种螯合剂是1，2-二羟基苯或其衍生物。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一种碱性组分是烷醇胺。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述至少一种烷醇胺选自下组：单乙醇胺(MEA)、二乙醇胺(DEA)、二甘醇胺(DGA)、三乙醇胺(TEA)、异丙醇胺(IPA)、正丙醇胺(NPA)、单异丙醇胺(MIPA)、单甲基乙醇胺(MMEA)、氨基乙基氨基乙醇(AEEA)、单甲基乙醇胺(NMEA)、N，N-二-羟基乙基-乙二胺、N-氨基乙基-N′-羟基乙基-乙二胺、N，N′-二羟基乙基-乙二胺、2-[2-(2-氨基乙氧基)-乙基氨基]-乙醇、2-[2-(2-氨基乙基氨基)-乙氧基]-乙醇、2-[2-(2-氨基乙氧基)-乙氧基]-乙醇、叔丁基二乙醇胺、异丙醇胺、二异丙醇胺、正丙醇胺(NPA)、异丁醇胺、2-(2-氨基乙氧基)-丙醇和这些烷醇胺的组合。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述至少一种烷醇胺是DGA。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述碱性组分是季铵化合物。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含氧铵化合物是羟胺，所述碱性组分是烷醇胺。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述残余物还包括来自包含SiN和类金刚石碳(DLC)的阻挡层的残余物。

10.一种从空气支承面除去抗蚀剂掩模和残余物的方法，该方法包括使所述表面与一种组合物接触，所述组合物包含：

(a)约5-50％的羟胺游离碱；

(b)约10-80重量％的一种或多种烷醇胺和有机溶剂；以及

(c)水，

其中所述空气支承面没有进行作为清洁过程一部分的机械清洁处理，

至少10％的化合物(b)是烷醇胺；和

所述残余物包括来自蚀刻碳化钛和氧化铝的残余物。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，在所述空气支承面与所述组合物接触后没有紧跟的清洗步骤。

12.一种从打印机头除去残余物的方法，该方法包括使所述打印机头与一种组合物接触，所述组合物包含：

(a)约5-25重量％的含氧铵化合物；

(b)约20-80重量％的一种或多种烷醇胺和有机溶剂或它们的混合物；以及

(c)水的总量小于30重量％，

其中所述残余物包括来自对选自下组的化合物进行蚀刻所产生的残余物：TaN、TiN、TiAlN和WSiN。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述组分(a)是50％水溶液形式的羟胺游离碱。

14.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述组分(b)含有约20-40重量％的烷醇胺。

15.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述组合物还包含约2-15重量％的螯合剂。

16.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述残余物还包括来自包含SiN和类金刚石碳(DLC)的阻挡层的残余物。