[发明专利]炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物,用该组合物制造半导电聚酰亚胺树脂带的方法和半导电聚酰亚胺树脂带有效
申请号: | 200880119486.3 | 申请日: | 2008-12-04 |
公开(公告)号: | CN101889059A | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 西浦直树;市野晃;鞍冈隆志;村上彻;中山刚成 | 申请(专利权)人: | 郡是株式会社;宇部兴产株式会社 |
主分类号: | C08L79/08 | 分类号: | C08L79/08;B29C41/04;C08G73/10;C08K3/04;G03G15/16;B29K79/00;B29L29/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 炭黑 分散 聚酰胺 溶液 组合 制造 导电 聚酰亚胺 树脂 方法 | ||
1.一种炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物,其包含聚酰胺酸溶液和均匀分散在其中的炭黑,所述聚酰胺酸溶液通过联苯四羧酸二酐和芳香族二胺在有机极性溶剂中反应获得;
所述联苯四羧酸二酐包括2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐和3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐;
所述芳香族二胺包括4,4’-二氨基二苯醚和对苯二胺;并且
所述聚酰胺酸溶液具有25重量%以上的固含量。
2.根据权利要求1所述的炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物,其中所述聚酰胺酸溶液包含占总联苯四羧酸二酐组分的15~50mol%的2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐和85~50mol%的3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐,以及占总芳香族二胺组分的20~80mol%的4,4’-二氨基二苯醚和80~20mol%的对苯二胺。
3.根据权利要求1或2所述的炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物,其中所述炭黑的含量基于所述炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物的总固体为15~30重量%。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物,其中所述炭黑通过对油炉法生产的炭黑进行氧化处理而获得,并且所述氧化处理后的炭黑的pH为2~5,挥发物含量为2~6重量%,氮吸附比表面积为60~150m2/g,邻苯二甲酸二丁酯吸附值为40~120ml/100g,并且萃取的未分解原料烃的量为10ppm以下。
5.一种半导电聚酰亚胺树脂带,其包含聚酰亚胺树脂和炭黑,所述聚酰亚胺树脂包括式(1)至(4)所示的结构单元:
[化学式1]
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
6.根据权利要求5所述的半导电聚酰亚胺树脂带,其中所述聚酰亚胺树脂包含基于式(1)和式(2)所示的结构单元的总量为15~50mol%的式(1)所示的结构单元和85~50mol%的式(2)所示的结构单元,以及基于式(3)和式(4)所示的结构单元的总量为20~80mol%的式(3)所示的结构单元和80~20mol%的式(4)所示的结构单元。
7.根据权利要求5或6所述的半导电聚酰亚胺树脂带,其中所述半导电聚酰亚胺树脂带中的炭黑含量为15~30重量%。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的半导电聚酰亚胺树脂带,其中所述炭黑通过对油炉法生产的炭黑进行氧化处理而获得,并且所述氧化处理后的炭黑的pH为2~5,挥发物含量为2~6重量%,氮吸附比表面积为60~150m2/g,邻苯二甲酸二丁酯吸附值为40~120ml/100g,并且萃取的未分解原料烃的量为10ppm以下。
9.一种通过将权利要求1至4中任一项所述的炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物经旋转成型模制成管状并随后利用热处理对所模制的产品进行酰亚胺化来制造半导电聚酰亚胺树脂带的方法,所述方法包括以下步骤:
(1)将所述炭黑分散聚酰胺酸溶液组合物施用至圆筒形模具的内表面,同时使所述圆筒形模具以0.5~10倍重力加速度的离心加速度旋转;
(2)在所述圆筒形模具以0.5~10倍重力加速度的离心加速度旋转时,通过在100~140℃温度下加热所述圆筒形模具来形成自支撑膜;和
(3)在所述膜粘附于所述圆筒形模具的内表面的情况下,使所述膜在300℃以上的温度下酰亚胺化。
10.一种通过权利要求9所述的方法制造的半导电聚酰亚胺树脂带,其具有108~1014Ω/□的表面电阻率。
11.一种通过权利要求9所述的方法制造的半导电聚酰亚胺树脂带,其在所述带的宽度方向上具有2mm以下的平面度。
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