[发明专利]在基片上组装元件的方法

权利要求书

1.一种在基片上组装元件的方法，该方法包括以下步骤：

形成具有光学特性的自支撑元件；

在所述基片或所述自支撑元件上提供第一结合物质的图案；以及

通过借助于所述第一结合物质的结合相互作用在所述基片上形成结合元件；

其中所述结合元件显示与所述自支撑元件相比基本上相同的光学特性。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述结合元件的形成包括：将所述自支撑元件施加在所述基片上以用于借助于所述第一结合物质建立所述结合相互作用，并且去除未借助于所述第一物质结合的部分所述自支撑元件，使得所述第一结合物质的图案转移至所形成的结合元件上。

3.如权利要求1或2所述的方法，进一步包括在所述自支撑元件或所述基片上提供第二结合物质，并且所述自支撑元件和基片之间的所述结合相互作用借助于所述第一结合物质与所述第二结合物质的结合。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述基片包括在其上形成的另一元件，并且所述自支撑元件的至少一部分结合于所述另一元件的表面上，并且其中所述另一元件和所述结合元件形成集成元件的至少一部分。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述集成元件包括光学元件。

6.如权利要求4所述的方法，进一步包括在所述另一元件、所述自支撑元件，或两者上形成材料层，使得所述材料层夹在所述集成元件中的所述另一元件和所述结合元件之间。

7.如权利要求6所述的方法，其中选择所述材料层使得所述集成元件显示所需的光学特性。

8.如权利要求6所述的方法，其中所述材料层包括至少所述第一结合物质。

9.如前面任意一项权利要求所述的方法，其中所述基片和所述自支撑元件是晶格失配的。

10.如前面任意一项权利要求所述的方法，进一步包括以下步骤：在所述基片上通过借助于所述第一结合物质的所述结合相互作用形成所述结合元件之前，在不被所述第一结合物质的图案覆盖的区域中提供阻断物质，以用于提高所述结合相互作用的选择性。

11.如前面任意一项权利要求所述的方法，其中选择所述第一结合物质使得所述结合相互作用包括由生物分子相互作用、范德华力、氢键键合、疏水性/亲水性、金属配位、静电和共价键合组成的组中的一种或多种结合相互作用。

12.如前面任意一项权利要求所述的方法，包括：

形成两个或多个不同的自支撑元件，各个自支撑元件具有光学特性；

在所述基片上提供两种或多种不同的第一结合物质各自的图案；以及

在各个不同的自支撑元件上提供分别与不同的所述第一结合物质对应的不同的第二结合物质，

在所述基片上通过所述不同的自支撑元件和所述不同的第一结合物质之间借助于所述不同的对应的第二结合物质的结合相互作用形成各个结合元件；

其中所述结合元件分别显示与相应的自支撑元件基本上相同的光学特性。

13.如前面任意一项权利要求所述的方法，其中所述基片包括第一布拉格反射镜，所述自支撑元件包括第二布拉格反射镜，并且所述第一结合物质包括刺激响应型材料，使得所述第二布拉格反射镜通过借助于所述刺激响应型材料的结合相互作用而装配在所述第一布拉格反射镜上。

14.如前面任意一项权利要求所述的方法，其中所述基片包括第一布拉格反射镜，所述自支撑元件包括第二布拉格反射镜，并且所述第一结合物质包括发光材料，使得所述第二布拉格反射镜通过借助于所述发光材料的结合相互作用而装配在所述第一布拉格反射镜上。

15.一种组件，包括：

基片；和

通过借助于设置在所述基片上或结合元件的自支撑预制件上的第一结合物质的结合相互作用而装配在所述基片上的所述结合元件；

其中与所述自支撑预制件比较，所述结合元件显示基本上相同的光学特性。

16.如权利要求15所述的组件，其中所述结合元件是所述自支撑预制件的一部分，所述自支撑预制件的未借助于所述第一结合物质结合的其他部分被去除。