[发明专利]百叶窗系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种百叶窗系统，其能够在打开位置与关闭位置之间操作，在关闭位置避免表面不期望地暴露于辐射通量。

背景技术

当今在工业中使用多种百叶窗系统来避免表面不期望地暴露于例如沉积工艺期间的材料或者诸如紫外(UV)光或红外(IR)光的电磁辐射的辐射通量。在关闭位置中，百叶窗的屏蔽件位于必须要屏蔽的区域前面，并且在打开位置中，该屏蔽件移动到位于遮蔽区域外的位置。

当不是同时使用所有沉积源时，百叶窗有时在物理气相沉积(PVD)工艺中使用。例如，TiAl和Ti源在TiAlN层，然后TiN层的沉积期间依次使用。在TiAlN沉积期间，优选通过百叶窗遮蔽Ti源以避免TiAlN层形成在Ti源上，而在TiN沉积期间，位于Ti源前面的百叶窗打开，但TiAl源前面的另一百叶窗关闭。

另一示例是位于仪器(例如，光谱仪)的检测器与所研究过程，例如光源(UV光、可见光或IR光)之间的百叶窗。百叶窗避免在检测器不进行测量的时间期间内的不合需要的暴露。

百叶窗的最通常设计在图1-2中示意性显示。在图1中，示意性显示了具有一个轴102和百叶窗屏蔽件104的百叶窗100的两个不同侧视图，其中轴102安装在屏蔽件的周缘附近或周缘上。百叶窗100通过转动(箭头106)百叶窗100的轴102打开(位置A)和关闭(位置B)。优点是牢靠的设计并且在沉积源108前面不需要额外的空间，但当屏蔽件104处于打开位置(位置A)时，需要百叶窗100旁边的许多空间。这限制了百叶窗100旁边的其它部件的数量，因为例如在PVD设备中，源108、加热器和视口都置于PVD容器的壁110中。

在图2中，显示了具有两个轴122₁、122₂和两个屏蔽件124₁、124₂的百叶窗120的两个不同侧视图，所述屏蔽件通常是矩形的，如图2中所示。百叶窗120通过转动百叶窗120的两个轴122₁、122₂打开(位置A)和关闭(位置B)。优点是牢靠的设计，并且与图1中显示的百叶窗相比，在打开位置(位置A)中，百叶窗120旁边的空间仅被屏蔽件124₁、124₂的区域占据。因此，能在较少的额外空间需求的情况下遮蔽大的矩形区域。在图2中，还显示了沉积源126。缺点是当从关闭(位置B)转向打开位置(位置A)时的百叶窗120前面所需的空间，以及在打开位置(位置A)所需的空间，尽管该空间小于图1中显示的百叶窗的空间。百叶窗120前面所需的空间在某些工艺，例如某些PVD工艺中是关键的。此空间设定了源126与PVD设备中的基底之间的距离的下限，而沉积速度随源126与基底之间的距离增大而下降。如图2中明显的，这里遮蔽宽度表示为w，每个屏蔽件12的打开宽度为o＝w/2，而百叶窗120前面的关键距离是a＝w/2。

类似的百叶窗由图2中显示的百叶窗120的仅一侧，即仅一个轴和一个屏蔽件组成，但是其增加了百叶窗前面所需的空间。

US-B1-6,315,877描述了一种PVD设备。该设备包括沿壁的侧面，即垂直于真空室的径向和竖直方向移动的百叶窗。在打开位置中，此方案不需要百叶窗前面的额外空间，仅需要遮蔽区域旁边的屏蔽件的空间。因此，适合遮蔽大的矩形区域。然而，打开位置的占用面积仍与图1中所示的百叶窗相同。此外，US-B1-6,315,877中的用以控制百叶窗的设备相当复杂，因此系统不如图1和/或图2中所示的百叶窗那样牢靠。

发明内容

上述问题通过根据权利要求1的百叶窗系统来解决。该百叶窗系统能够在打开位置与关闭位置之间操作，在关闭位置避免表面不期望地暴露于辐射通量。该百叶窗系统包括至少一对屏蔽件以及用于每个屏蔽件的轴。第一轴连接到第一屏蔽件的端部，并与该第一屏蔽件的转动轴线重合。呈有角型臂形状的第二轴连接到第二屏蔽件的端部，并且第二屏蔽件的转动轴线平行于所述第一屏蔽件的转动轴线且布置在距第二屏蔽件一定距离处。

根据本发明的百叶窗系统的主要优点在于与上述的已知百叶窗相比，在打开位置时占用面积减小。

此外，根据本发明的百叶窗系统在百叶窗前面具有相当适度的关键空间。与例如图2中所示的百叶窗相比，此关键空间减小。

如果x＞＝y，则获得另一优点，这里x表示当所述百叶窗系统处于关闭位置时，所述第二屏蔽件的转动轴线与所述第二屏蔽件的最靠近所述第一屏蔽件的边缘之间的垂直距离，而y表示所述第二屏蔽件的转动轴线与所述第一轴连接到所述第一屏蔽件的所述端部所在的连接点之间的垂直距离。