[发明专利]具有干涉式背面掩模的光伏装置无效

专利信息
申请号: 200880120826.4 申请日: 2008-12-09
公开(公告)号: CN101897033A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 马尼什·科塔里;卡斯拉·哈泽尼 申请(专利权)人: 高通MEMS科技公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0216
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘国伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 干涉 背面 装置
【权利要求书】:

1.一种光伏装置,其界定光入射于上面的正面及与所述正面相对的背面,所述光伏装置包含:

光伏活性材料;

导体,其位于所述光伏材料的背面上;以及

光学干涉式掩模,其位于所述导体的背面上方。

2.根据权利要求1所述的光伏装置,其中所述光学干涉式掩模经配置以使得从所述掩模反射的光的色彩大体上匹配所述光伏装置的所述背面上的周围特征的色彩。

3.根据权利要求2所述的光伏装置,其中所述光学干涉式掩模经配置以使得所述从所述掩模反射的光的色彩大体上匹配可见光谱中的色彩。

4.根据权利要求1所述的光伏装置,其中所述从所述光学干涉式掩模反射的光落在与所述可见光谱相关联的波长内。

5.根据权利要求1所述的光伏装置,其中所述光学干涉式掩模经配置以使得极少或无可见入射光从所述干涉式掩模的背面反射,从而使得从正视角度观察,所述干涉式掩模表现为黑色。

6.根据权利要求1所述的光伏装置,其中所述光学干涉式掩模经配置以使得从所述掩模的在可见范围中的反射率小于10%。

7.根据权利要求1所述的光伏装置,其中所述光学干涉式掩模包含:

反射表面;

光学谐振腔,其位于所述反射表面的背后上方;以及

吸收器,其位于所述光学谐振腔的背后上方。

8.根据权利要求7所述的光伏装置,其中所述反射表面由所述导体与所述光学谐振腔之间的单独金属反射器层界定。

9.根据权利要求7所述的光伏装置,其中所述反射表面由所述导体的背表面界定。

10.根据权利要求1所述的装置,其中所述光伏装置并入于窗口中。

11.根据权利要求1所述的光伏装置,其进一步包含:

显示器;

处理器,其经配置以与所述显示器通信,所述处理器经配置以处理图像数据;以及

存储器装置,其经配置以与所述处理器通信。

12.根据权利要求11所述的光伏装置,其进一步包含:

驱动器电路,其经配置以将至少一个信号发送到所述显示器。

13.根据权利要求12所述的光伏装置,其进一步包含:

控制器,其经配置以将所述图像数据的至少一部分发送到所述驱动器电路。

14.一种光伏装置,其包含:

用于从入射光产生电流的装置,所述入射光入射在所述装置的侧面上;

用于传导所述所产生的电流的正面装置及背面装置;以及

用于从所述光伏装置的入射面以干涉方式遮蔽所述背面传导装置的装置。

15.一种制造光伏装置的方法,其包含:

提供具有光伏活性层、正面导体及背面导体的光伏产生器,所述正面导体经配置以允许光穿过正面到达所述光伏活性层;以及

在所述光伏产生器的所述背面导体上方形成多个层以界定经配置以遮蔽所述背面导体的干涉式调制器。

16.根据权利要求15所述的方法,其中所述干涉式调制器与所述光伏装置的背面集成。

17.根据权利要求16所述的方法,其中跨越所述背面导体沉积所述干涉式调制器。

18.根据权利要求17所述的方法,其中所述干涉式调制器延伸超出所述背面导体的表面小于约10%。

19.根据权利要求18所述的方法,其中所述干涉式调制器延伸超出所述背面导体的所述表面小于约5%。

20.根据权利要求15所述的方法,其中跨越所述背面导体图案化所述干涉式调制器。

21.根据权利要求20所述的方法,其中所述干涉式调制器包含吸收器、光学谐振腔及导体,其中所述吸收器经图案化以遵循所述背面导体的图案。

22.根据权利要求21所述的方法,其中所述光学谐振腔经图案化以遵循所述背面导体的图案。

23.根据权利要求21所述的方法,其中所述吸收器及光学谐振腔经配置以反射大体上与所述光伏装置的所暴露部分反射的可见光谱匹配的可见光。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通MEMS科技公司,未经高通MEMS科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880120826.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top