[发明专利]微流体设备及其制造方法和合并这种微流体设备的传感器有效
申请号: | 200880121205.8 | 申请日: | 2008-12-08 |
公开(公告)号: | CN101903105B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | R·温伯格-弗里德尔;R·彭特曼;R·库尔特;E·皮特斯 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;C12M1/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 龚海军,刘鹏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 设备 及其 制造 方法 合并 这种 传感器 | ||
1.微流体设备,包括:
-第一衬底(120),具有第一表面(122);
-第二衬底(128),具有第二表面(126);
其中所述第二表面接触所述第一表面,于是限定了所述第一衬底和第二衬底之间的分界面;
-在所述分解面处提供的第一凹槽(124)和第二凹槽(130);
其中第一凹槽和第二凹槽形成在与所述分界面成直角的平面中蜿蜒而行的通道(104);
其中至少一些凹槽包括多孔材料(114),并且多孔材料(114)被布置成使得在第一衬底(120)与第二衬底(128)的接触表面之间没有插入的多孔材料(114);以及
其中所述通道的宽度等于所述第一凹槽和所述第二凹槽的宽度。
2.权利要求1所述的微流体设备,其中所述第一凹槽(124)被设置在第一表面(122)中并且所述第二凹槽(130)被设置在第二表面(126)中。
3.权利要求1或2所述的微流体设备,其中至少一些凹槽(124,130)充满另一种多孔材料。
4.权利要求1或2所述的微流体设备,其中所述多孔材料(114)邻接凹槽(124,130)的拐角。
5.权利要求1或2所述的微流体设备,
其中在使用中,所述第一凹槽(124)中的多孔材料(114)接触所述第二表面(126),和/或
其中在使用中,所述第二凹槽(130)中的多孔材料(114)接触所述第一表面(122)。
6.权利要求1或2所述的微流体设备,
其中用于结合目标物质的捕获物质(116)被设置在一个或多个凹槽(124,130)的多孔材料(114)中或其上。
7.权利要求6的微流体设备,
其中在使用中,所述第一凹槽(124)中的捕获物质(116)接触所述第二表面(126),和/或
其中在使用中,所述第二凹槽(130)中的捕获物质(116)接触所述第一表面(122)。
8.权利要求1或2所述的微流体设备,其中所述多孔材料(114)能够膨胀与样本流体接触。
9.权利要求6的微流体设备,其中壁(134,135)被提供在第一衬底(120)和第二衬底(128)的分界面处,以用于在第一方向上引导捕获物质(116)的第一测量信号,和/或用于在第二方向上引导另一种捕获物质的第二测量信号。
10.权利要求9的微流体设备,其中所述第二方向基本上与第一方向相反。
11.权利要求1或2所述的微流体设备,其中第一凹槽(124)和/或第二凹槽(130)具有锥形壁(150,152)。
12.权利要求1或2所述的微流体设备,其中第一凹槽(124)和/或第二凹槽(130)的底部设有吸收或反射层(136)。
13.权利要求1或2所述的微流体设备,其中第一凹槽(124)和/或第二凹槽(130)的侧壁设有反射层(138)。
14.权利要求1或2所述的微流体设备,其中所述多孔材料(114)包括至少一种用于在样本流体中溶解的试剂。
15.一种传感器设备,包括前述权利要求中任一项的微流体设备,该传感器设备进一步包括用于测量微流体设备内生成的响应信号的检测器(4)。
16.制造微流体设备的方法,包括以下步骤:
-在第一衬底(120)的第一表面(122)和/或第二衬底(128)的第二表面(126)内提供第一凹槽(124)和第二凹槽(130);
-向至少一些第一凹槽提供多孔材料(114),该多孔材料(114)被布置成使得在第一衬底(120)与第二衬底(128)的接触表面之间没有插入的多孔材料(114),并且可选地向至少一些第二凹槽提供另一种多孔材料;以及
-使所述第一表面与所述第二表面接触,于是限定了第一衬底与第二衬底之间的分界面,从而使得第一凹槽和第二凹槽形成在与所述分界面成直角的平面中蜿蜒而行的通道(104),并且所述通道的宽度等于所述第一凹槽和所述第二凹槽的宽度。
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