[发明专利]使用多强度重新分配函数进行绘制无效

专利信息
申请号: 200880121378.X 申请日: 2008-12-16
公开(公告)号: CN101903912A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: H·莱曼;J·威斯;D·格勒 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G06T15/00 分类号: G06T15/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 使用 强度 重新 分配 函数 进行 绘制
【权利要求书】:

1.一种用于使用射线投射方法对包括多个体素的图像数据集进行可视化的系统(100),所述多个体素中的每个体素属于至少一个分类,所述至少一个分类中的每个分类与用于根据体素的测得体素值计算所述体素的重定义体素值的强度重新分配函数相关联,所述系统包括采样单元(120),其用于基于与从图像像素投射的投影射线上的样本定位邻近的至少一个体素的重定义体素值,计算所述投影射线上的所述样本定位处的样本值,其中,使用与所述至少一个体素的至少一个分类相关联的强度重新分配函数,根据所述至少一个体素的测得体素值计算所述至少一个体素的所述重定义体素值。

2.根据权利要求1所述的系统(100),其中,所述采样单元(120)包括:

-定位单元(122),其用于选择从所述图像像素投射的所述投影射线上的所述样本定位;

-体素单元(124),其用于选择邻近所述样本定位的所述至少一个体素;

-重定义单元(126),其用于使用与所述至少一个体素的至少一个分类相关联的强度重新分配函数,根据所述至少一个体素的测得体素值计算所述至少一个体素的重定义体素值;以及

-组合单元(128),其用于基于所述投影射线上的所述至少一个体素的重定义体素值,计算在所述样本定位处的所述样本值。

3.根据权利要求1所述的系统(100),还包括用于基于用户输入对所述强度重新分配函数进行成形的重新分配单元(130)。

4.根据权利要求1所述的系统(100),其中,所述射线投射方法为最大强度投影或最小强度投影。

5.根据权利要求1所述的系统(100),其中,所述多个分类包括背景分类。

6.根据权利要求1所述的系统,其中,所述至少一个分类包括多个分类。

7.一种使用射线投射方法对包括多个体素的图像数据集进行可视化的方法(500),所述多个体素中的每个体素属于至少一个分类,所述至少一个分类中的每个分类与用于根据体素的测得体素值计算所述体素的重定义体素值的强度重新分配函数相关联,所述方法包括采样步骤(520),其用于基于与从图像像素投射的投影射线上的样本定位邻近的至少一个体素的重定义体素值,计算所述投影射线上的所述样本定位处的样本值,其中,使用与所述至少一个体素的至少一个分类相关联的强度重新分配函数,根据所述至少一个体素的测得体素值计算所述至少一个体素的所述重定义体素值。

8.一种包括如权利要求1所述的系统(100)的图像采集装置(600)。

9.一种包括如权利要求1所述的系统(100)的工作站(700)。

10.一种要由计算机布置加载的计算机程序产品,包括用于使用射线投射方法对包括多个体素的图像数据集进行可视化的指令,所述多个体素中的每个体素属于至少一个分类,所述至少一个分类中的每个分类与用于根据体素的测得体素值计算所述体素的重定义体素值的强度重新分配函数相关联,所述计算机布置包括处理单元和存储器,在被加载之后,所述计算机程序产品为所述处理单元提供执行以下任务的能力:基于与从图像像素投射的投影射线上的样本定位邻近的至少一个体素的重定义体素值,计算所述投影射线上的所述样本定位处的样本值,其中,使用与所述至少一个体素的至少一个分类相关联的强度重新分配函数,根据所述至少一个体素的测得体素值计算所述至少一个体素的所述重定义体素值。

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