[发明专利]使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法

权利要求书

1.使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法，包括：

a)由抗反射涂料组合物形成抗反射膜，其中该组合物包含硅氧烷聚合物，

b)用含水碱性处理溶液处理该抗反射膜；

c)用含水清洗液清洗该经处理的抗反射膜；

d)在该抗反射涂料组合物的膜上形成光致抗蚀剂的涂层，

e)将该光致抗蚀剂膜成像式曝光；和

f)用含水碱性显影溶液将该光致抗蚀剂显影。

2.权利要求1的方法，其中该抗反射组合物还包含固化剂。

3.权利要求1或2的方法，其中该抗反射组合物还包含交联剂。

4.权利要求1-3中任一项的方法，其中该抗反射组合物不含固化剂。

5.权利要求1-4中任一项的方法，其中该硅氧烷聚合物包含碱可水解基团。

6.权利要求1-5中任一项的方法，其中该硅氧烷聚合物包含碱可水解SiX基团，其中X选自烷氧基、氯基、酰氧基和酮肟基。

7.权利要求1-6中任一项的方法，其中该含水碱性处理溶液包含氢氧化四甲基铵。

8.权利要求1-7中任一项的方法，其中该清洗液是水。

9.权利要求1-8中任一项的方法，其中该光致抗蚀剂包含聚合物和光酸产生剂。

10.权利要求1-9中任一项的方法，其中该成像式曝光在选自248nm、193nm、157nm和13.5nm的波长下进行。

11.权利要求1-10中任一项的方法，其中该显影溶液包含氢氧化四甲基铵。

12.权利要求1-11中任一项的方法，其中该抗反射膜在用含水碱性溶液处理后具有大约50°-大约75°的水接触角。