[发明专利]具有高耐刮擦性和耐候性的涂层剂有效
申请号: | 200880121768.7 | 申请日: | 2008-12-18 |
公开(公告)号: | CN101952338A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | A·鲍博;S·赫尔特舒尔特;B·菲尔德曼;O·希尔格;G·克莱恩 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫涂料有限公司 |
主分类号: | C08G18/20 | 分类号: | C08G18/20;C08G18/28;C08G18/62;C08G18/77;C08G18/79;C09D175/04;C08K3/32 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 邓毅 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 高耐刮擦性 耐候性 涂层 | ||
1.涂层剂,其含有
(a)至少一种含羟基的化合物(A),
(b)至少一种具有游离和/或封闭的异氰酸酯基团的化合物(B),以及
(c)至少一种用于使硅烷基团交联的、含磷酸盐的催化剂(C),
(d)至少一种其它催化剂(D),
其中,所述涂层剂的一种或多种成分含有可水解的硅烷基团,其特征在于,催化剂(D)是双环胺。
2.根据权利要求1所述的粘结剂,其特征在于,催化剂(D)是不饱和双环胺。
3.根据权利要求1所述的粘结剂,其特征在于,催化剂(D)是1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯或1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一-7-烯。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的涂层剂,其特征在于,所述涂层剂的一种或多种成分至少部分具有一种或多种、相同或不同的式(I)结构单元
-X-Si-R″xG3-x (I)
其中
G=相同或不同的可水解基团,尤其是G=烷氧基(OR′),
X=有机残基,尤其是具有1~20个碳原子的线形和/或支化的亚烷基或亚环烷基残基,尤其特别优选X=具有1~4个碳原子的亚烷基残基,
R″=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可以被不相邻的氧-、硫-或NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,优选R″=烷基残基,尤其是具有1~6个碳原子的烷基残基,
x=0~2,优选0~1,特别优选x=0。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的涂层剂,其特征在于,所述涂层剂的一种或多种成分具有
2.5~97.5摩尔%的至少一种式(II)结构单元,以结构单元(II)和(III)的总和计
-N(X-SiR″x(OR′)3-x)n(X′-SiR″y(OR′)3-y)m (II)
其中
R′=氢、烷基或环烷基,其中碳链可以被不相邻的氧-、硫-或者NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,优选R′=乙基和/或甲基
X,X′=具有1~20个碳原子的线形和/或支化的亚烷基或亚环烷基残基,优选X,X′=具有1~4个碳原子的亚烷基残基,
R″=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,且碳链可以被不相邻的氧-、硫-或者NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,优选R″=烷基残基,尤其具有1~6个碳原子的烷基残基,
n=0~2,m=0~2,m+n=2,以及
x,y=0~2,
和
2.5~97.5摩尔%的至少一种式(III)结构单元,以结构单元(II)和(III)的总和计
-Z-(X-SiR″x(OR′)3-x)(III),
其中
Z=-NH-、-NR-、-O-,其中
R=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可以被不相邻的氧-、硫-或NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,
x=0~2,且
X,R′,R″具有式(II)中所述的含义。
6.根据权利要求1~5所述的涂层剂,其特征在于,所述涂层剂的一种或多种成分具有5~95摩尔%、尤其是10~90摩尔%、特别优选20~80摩尔%且尤其特别是30~70%的至少一种式(II)结构单元,分别以结构单元(II)和(III)的总和计,以及5~95摩尔%、尤其是10~90摩尔%、特别优选20~80摩尔%且尤其特别是30~70摩尔%的至少一种式(III)结构单元,分别以结构单元(II)和(III)的总和计。
7.根据权利要求5或6所述的涂层剂,其特征在于,结构单元(II)和(III)以2.5~97.5摩尔%,优选5~95摩尔%,特别优选10~90摩尔%的份额存在,分别以对于所述涂层剂中的交联反应至关重要的官能团的总数计,所述官能团由羟基和异氰酸酯基团的份额以及结构单元(II)和(III)的份额构成。
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