[发明专利]具有高耐刮擦性和耐候性的涂层剂有效

专利信息
申请号: 200880121768.7 申请日: 2008-12-18
公开(公告)号: CN101952338A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: A·鲍博;S·赫尔特舒尔特;B·菲尔德曼;O·希尔格;G·克莱恩 申请(专利权)人: 巴斯夫涂料有限公司
主分类号: C08G18/20 分类号: C08G18/20;C08G18/28;C08G18/62;C08G18/77;C08G18/79;C09D175/04;C08K3/32
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 邓毅
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 具有 高耐刮擦性 耐候性 涂层
【权利要求书】:

1.涂层剂,其含有

(a)至少一种含羟基的化合物(A),

(b)至少一种具有游离和/或封闭的异氰酸酯基团的化合物(B),以及

(c)至少一种用于使硅烷基团交联的、含磷酸盐的催化剂(C),

(d)至少一种其它催化剂(D),

其中,所述涂层剂的一种或多种成分含有可水解的硅烷基团,其特征在于,催化剂(D)是双环胺。

2.根据权利要求1所述的粘结剂,其特征在于,催化剂(D)是不饱和双环胺。

3.根据权利要求1所述的粘结剂,其特征在于,催化剂(D)是1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯或1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一-7-烯。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的涂层剂,其特征在于,所述涂层剂的一种或多种成分至少部分具有一种或多种、相同或不同的式(I)结构单元

-X-Si-R″xG3-x        (I)

其中

G=相同或不同的可水解基团,尤其是G=烷氧基(OR′),

X=有机残基,尤其是具有1~20个碳原子的线形和/或支化的亚烷基或亚环烷基残基,尤其特别优选X=具有1~4个碳原子的亚烷基残基,

R″=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可以被不相邻的氧-、硫-或NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,优选R″=烷基残基,尤其是具有1~6个碳原子的烷基残基,

x=0~2,优选0~1,特别优选x=0。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的涂层剂,其特征在于,所述涂层剂的一种或多种成分具有

2.5~97.5摩尔%的至少一种式(II)结构单元,以结构单元(II)和(III)的总和计

-N(X-SiR″x(OR′)3-x)n(X′-SiR″y(OR′)3-y)m      (II)

其中

R′=氢、烷基或环烷基,其中碳链可以被不相邻的氧-、硫-或者NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,优选R′=乙基和/或甲基

X,X′=具有1~20个碳原子的线形和/或支化的亚烷基或亚环烷基残基,优选X,X′=具有1~4个碳原子的亚烷基残基,

R″=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,且碳链可以被不相邻的氧-、硫-或者NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,优选R″=烷基残基,尤其具有1~6个碳原子的烷基残基,

n=0~2,m=0~2,m+n=2,以及

x,y=0~2,

2.5~97.5摩尔%的至少一种式(III)结构单元,以结构单元(II)和(III)的总和计

-Z-(X-SiR″x(OR′)3-x)(III),

其中

Z=-NH-、-NR-、-O-,其中

R=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,其中碳链可以被不相邻的氧-、硫-或NRa-基团间断,其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基,

x=0~2,且

X,R′,R″具有式(II)中所述的含义。

6.根据权利要求1~5所述的涂层剂,其特征在于,所述涂层剂的一种或多种成分具有5~95摩尔%、尤其是10~90摩尔%、特别优选20~80摩尔%且尤其特别是30~70%的至少一种式(II)结构单元,分别以结构单元(II)和(III)的总和计,以及5~95摩尔%、尤其是10~90摩尔%、特别优选20~80摩尔%且尤其特别是30~70摩尔%的至少一种式(III)结构单元,分别以结构单元(II)和(III)的总和计。

7.根据权利要求5或6所述的涂层剂,其特征在于,结构单元(II)和(III)以2.5~97.5摩尔%,优选5~95摩尔%,特别优选10~90摩尔%的份额存在,分别以对于所述涂层剂中的交联反应至关重要的官能团的总数计,所述官能团由羟基和异氰酸酯基团的份额以及结构单元(II)和(III)的份额构成。

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