[发明专利]信息处理装置、信息处理方法以及程序有效
申请号: | 200880122229.5 | 申请日: | 2008-12-17 |
公开(公告)号: | CN101903975A | 公开(公告)日: | 2010-12-01 |
发明(设计)人: | 山上宗隆 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/205;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷;南霆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息处理 装置 方法 以及 程序 | ||
技术领域
本发明涉及用于使用制造装置的半导体制造工艺等中的信息处理装置等。
背景技术
以往的半导体装置的制造方法中已知有如下构成的方法:该方法在半导体装置的制造工艺中的一个制造工序中包括以下步骤:将在所述一个制造工序之前实施的所述半导体装置的制造工序的处理历史以及检查结果记录到计算机可读的存储介质中;以及基于记录在所述存储介质中的所述处理历史以及检查结果来决定所述一个制造工序的处理条件;并且使用至少一个计算机来进行这些步骤(例如,参照专利文献1)。
可是,在实际的半导体制造工艺中,即使是相同的制造装置,装置特性也会根据机种而不同,或者如果制造时的目标等不同则应调节的参数也会大不相同,从而参数之间关联性不大,因此难以使用计算机等完全自动地设定处理条件。
因此,通过由用户手动改变作为工艺的决定要素的参数等而获得了作为目的的工艺结果。
当如此手动进行可得到作为目的的工艺结果的参数设定时,原本是优选分派尽量多的参数来进行实验,但在时间上多数比较困难。
因而,在实际的实验现场等中,依赖熟练者的经验和感觉来决定制造装置的参数等的变更范围等。
专利文献1:日本专利文献特开2002-231596号公报(第1页、图1等)。
发明内容
发明要解决的问题
可是,以往存在如下问题:由于如上述那样依赖熟练者的经验和感觉来决定制造装置的参数等的变更范围,因此决定参数等时的专门知识(know how)等被专人化,无法共享,如果熟练者不在,则无法设定制造装置的参数等以得到成为目标的结果,并且,要得到成为目标的结果则需要重复实验等,从而耗费时间。
从而,经验少的用户很难设定制造装置的参数等以得到成为目的结果。另外,通过制造装置得到的产品的质量可能会受到用户熟练度的很大影响。
另外,即使想要参考其他用户的参数设定例,也要花时间来寻找目标等一致的设定例,并且即便参考目标不同的设定例也不能进行恰当的调节,因此进行恰当的调节较困难。
(用于解决问题的手段)
本发明的信息处理装置包括:目标值接受部,其接受一个以上种类的目标值,该目标值是表示使用制造装置对被处理基片进行的预定的半导体制造工艺的目标的值;参数获取部,其获取一个以上种类的参数的值,该参数是与所述制造装置有关的执行所述半导体制造工艺时的参数;执行结果获取部,其获取一个以上种类的执行结果,该执行结果是表示执行了所述半导体制造工艺的结果的值;储存部,其将由所述执行结果获取部获取的执行结果、由所述目标值接受部接受的目标值、以及由所述参数获取部获取的参数的值对应起来储存;相关性获取部,其获取相关性信息,该相关性信息是与所述储存部所储存的所述执行结果、所述目标值以及所述参数的值之间的相关性(correlation)有关的信息;辅助信息获取部,其使用由所述相关性获取部获取的相关性信息来获取辅助信息,该辅助信息是与针对所述目标值接受部所接受的目标值相关性高的参数有关的信息;以及输出部,其输出由所述辅助信息获取部获取的辅助信息。
根据如上构成,能够向用户示出为得到接近目标值的执行结果而应调节的参数及其值等,从而能够有效且迅速地调节参数。
另外,本发明的信息处理装置在上述信息处理装置中还如下构成:所述参数获取部获取多个种类的参数的值,所述储存部储存多个将由所述执行结果获取部获取的执行结果、由所述目标值接受部接受的目标值、以及由所述参数获取部获取的多个种类的参数的值对应起来的组,所述相关性获取部针对由所述储存部对应起来储存的执行结果、目标值以及多个种类的参数的值的多个组中的每一组,获取表示目标值与执行结果之间的偏差的值,并使用所述获取的表示偏差的值和与所述表示偏差的值相对应的多个种类的参数的值组成的多个组来计算所述相关性信息,所述相关性信息是所述多个种类的参数中的每个参数与所述表示偏差的值之间的相关性系数,所述辅助信息获取部获取辅助信息,所述辅助信息是与所述多个种类的参数中的所述相关性系数大的一个以上种类的参数有关的信息。
根据如上构成,能够向用户示出与目标值相关性高的参数及其值等,从而能够有效且迅速地调节参数。
另外,本发明的信息处理装置在上述信息处理装置中还如下构成:所述辅助信息获取部从由所述储存部储存的参数的值中获取所述辅助信息,所述辅助信息是所述相关性系数大的一个以上种类的参数的值、并且是表示对应的目标值与执行结果之间的偏差的值小的参数的值。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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