[发明专利]纳米压印薄膜的制造方法、显示装置以及液晶显示装置

权利要求书

1.一种纳米压印薄膜的制造方法，该纳米压印薄膜形成在基材上，在表面具有纳米尺寸的凹凸，上述纳米压印薄膜的制造方法的特征在于：

该制造方法包括：

第一工序，在包含紫外线吸收成分的基材上涂敷具有紫外线固化性的树脂来形成膜；

第二工序，从该膜的表面侧照射紫外线来形成半固化的膜；

第三工序，对该半固化的膜的表面进行凹凸处理来形成具有凹凸面的膜；以及

第四工序，对该具有凹凸面的膜进行固化处理来得到纳米压印薄膜。

2.根据权利要求1所述的纳米压印薄膜的制造方法，其特征在于：

在上述第三工序中，将模具按压在膜的表面。

3.根据权利要求1或者2所述的纳米压印薄膜的制造方法，其特征在于：

在上述第四工序中，从具有凹凸面的膜的表面侧照射紫外线。

4.根据权利要求2或者3所述的纳米压印薄膜的制造方法，其特征在于：

上述模具由遮蔽紫外线的材料构成。

5.根据权利要求2～4中的任意一项所述的纳米压印薄膜的制造方法，其特征在于：

上述模具是在外周面形成有纳米尺寸的凹凸的圆筒体，

在上述第三工序中，对半固化的膜的表面按压旋转的模具，在膜表面连续地形成纳米尺寸的凹凸。

6.根据权利要求1～5中的任意一项所述的纳米压印薄膜的制造方法，其特征在于：

上述基材具有包含紫外线吸收成分的支撑构件和偏光元件。

7.一种显示装置，其特征在于：

在显示面具备由根据权利要求1～6中的任意一项所述的制造方法所制作出的纳米压印薄膜。

8.一种显示装置，具备形成在基材上、在表面具有纳米尺寸的凹凸的纳米压印薄膜，其特征在于：

该基材包含紫外线吸收成分，

该纳米压印薄膜是只通过来自表面侧的紫外线照射而进行了固化处理的薄膜。

9.一种液晶显示装置，具备一对基板和被该一对基板夹持的液晶层，其特征在于：

该一对基板中的一方在显示面侧的表面具备基材和形成在该基材上的在表面具有纳米尺寸的凹凸的纳米压印薄膜，

该基材具有包含紫外线吸收成分的支撑构件和偏光元件，

该纳米压印薄膜是仅通过来自表面侧的紫外线照射进行了固化处理的薄膜。