[发明专利]含镍的膜的形成材料和其制造方法

权利要求书

1.一种含镍的膜的形成材料，其特征在于，含有下述式(1)的结构式所示的化合物，

Ni(R¹_aC₆H_(5-a))(R²_bC₅H_(5-b))···(1)

式(1)中，C₅H_(5-a)和C₅H_(5-b)表示环戊二烯基环，R¹和R²各自独立地是氢原子、或下述式(2)的结构式所示的基团，此外，a和b分别为0～4的整数，除了R¹和R²均表示氢的情况以外，a和b满足0＜a+b≤4，

式(2)中，R³、R⁴和R⁵各自独立地是碳原子数为1～2的烷基。

2.根据权利要求1所述的含镍的膜的形成材料，其特征在于，上述式(2)中的R³、R⁴和R⁵均是甲基。

3.根据权利要求1所述的含镍的膜的形成材料，其特征在于，上述式(1)的结构式所示的化合物是双(三甲基甲硅烷基环戊二烯基)镍或(环戊二烯基)(三甲基甲硅烷基环戊二烯基)镍。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的含镍的膜的形成材料，其特征在于，是在使用CVD法即化学气相沉积法来形成含镍的膜时使用的材料。

5.根据权利要求4所述的含镍的膜的形成材料，其特征在于，上述含镍的膜是硅化镍膜。

6.使用权利要求1～5的任一项所述的含镍的膜的形成材料形成的硅化镍膜。

7.一种硅化镍膜的制造方法，其特征在于，使用了权利要求1～5的任一项所述的含镍的膜的形成材料，通过CVD法即化学气相沉积法形成硅化镍膜。

8.根据权利要求7所述的硅化镍膜的制造方法，其特征在于，利用上述式(2)的结构所示的基团中的硅作为硅化镍膜的硅源。

9.根据权利要求7或8所述的硅化镍膜的制造方法，其特征在于，上述含镍的膜的形成材料是双(三甲基甲硅烷基环戊二烯基)镍或(环戊二烯基)(三甲基甲硅烷基环戊二烯基)镍。