[发明专利]光学薄膜和包含该光学薄膜的发光装置有效

专利信息
申请号: 200880123273.8 申请日: 2008-11-06
公开(公告)号: CN101978311A 公开(公告)日: 2011-02-16
发明(设计)人: 沈容植;金荣一;朴晸浩 申请(专利权)人: 株式会社LMS
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;郑建晖
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 光学薄膜 包含 发光 装置
【权利要求书】:

1.光学薄膜,包括基底和多个在基底表面上形成的具有峰和谷部分的光学图案,

其中,光学图案的峰距,峰部分的高度和谷部分的深度是不规则的,并且光学图案具有非线性、非对称分布结构,在该结构中,从上面和侧面观察,峰部分和谷部分是不规则弯曲的。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,光学图案的平面结构具有沿纵向方向横向地锯齿形弯曲的形状,并且弯曲角度在2到40度的范围内。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,光学图案的侧视结构具有沿纵向方向上下锯齿形弯曲的形状,并且弯曲角度在3到30度的范围内。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,弯曲、非线性和非对称分布结构的光学图案具有正弦波形状、三角波形状和高斯波形状中任一种,或者是这些形状中至少两个的组合形状。

5.根据权利要求4所述的光学薄膜,其中,光学图案的弯曲的非线性非对称分布结构具有1∶9到9∶1的占空比。

6.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,光学图案具有缺陷修改结构,该缺陷修改结构被形成为微小不规则分布、微小划痕和毛刺中的任一种,该缺陷修改结构在距峰部分顶点小于30%的高度区域中规则或非规则地形成,

7.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,光学图案具有缺陷修改结构,该缺陷修改结构被形成为微小不规则分布、微小划痕和毛刺中的任一种,该缺陷修改结构在距谷部分顶点小于30%的高度区域中规则或非规则地形成。

8.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,光学图案的光截面具有三角形截面、多边形截面和圆弧形截面的任一种,并且光学图案的截面宽度是规则或不规则的。

9.根据权利要求1所述的光学薄膜,进一步包括多个在光学图案下形成的,具有圆弧形光截面的微透镜图案。

10.根据权利要求9所述的光学薄膜,其中,微透镜图案具有突出或凹陷的形状。

11.根据权利要求10所述的光学薄膜,其中,微透镜图案44的圆弧半径、间隔和突出高度或凹陷深度是规则或不规则的。

12.根据权利要求1所述的光学薄膜,进一步包括散射结构,其形成在一个与上面含有光学图案的基底表面相对的面上,以引起入射光上的光散射活动。

13.根据权利要求12所述的光学薄膜,其中散射结构是具有部分圆弧形光截面的散射图案,并且各散射图案具有部分球形形状(浮凸形状),该部分球形形状从顶部投影时成圆形,并且各散射图案从顶部观察时以规则或不规则间隔分散。

14.根据权利要求1所述的光学薄膜,进一步包括在基底中形成的漫射结构,以引起在入射光上的光漫射活动。

15.根据权利要求14所述的光学薄膜,其中漫射结构包括多个分散在基底中的漫射颗粒,以引起入射光上的光漫射活动。

16.根据权利要求14所述的光学薄膜,其中,漫射结构是包含漫射颗粒的漫射颗粒层,基底可以形成具有第一光学层和第二光学层的层压结构,光学图案形成在层压结构上并且漫射颗粒层可以在第一和第二光学层之间插入。

17.根据权利要求15或16所述的光学薄膜,其中,漫射颗粒包括作为透明固体颗粒的丙烯醛基颗粒、苯乙烯颗粒、硅颗粒、复合硅酸盐、玻璃珠和金刚石中任一种,作为白色颗粒的氧化钛、氧化锌、硫酸钡、碳酸钙、碳酸镁、氢氧化铝和陶土中任一种,或在薄膜中形成的泡。

18.发光装置,包括:

表面发光源;

在表面发光源上提供的屏面;和

根据权利要求1到16中任一所述的,在表面发光源和屏面之间插入的光学薄膜,用以将从表面发光源发射的光聚集和折射到屏面上。

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