[发明专利]药物吸入装置及其部件

权利要求书

1.一种制造药物吸入装置或药物吸入装置的部件的方法，所述方法包括在离子轰击条件下通过等离子体沉积分别在所述装置或所述部件的至少一部分表面上形成非金属涂层的步骤。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述非金属涂层基本上不含氟，特别是不含氟。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述非金属涂层包含硅、氧和氢。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述非金属涂层还包含碳。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述非金属涂层是钻石样玻璃，不算氢计，其含有至少约20原子％的碳和至少约30原子％的硅+氧。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的方法，其中所述非金属涂层中的硅与氧之比小于2。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述非金属涂层具有至少一种官能团，其中在所述形成步骤期间对所述非金属涂层提供所述至少一种官能团，或者是在所述形成步骤之后对形成的非金属涂层进行处理，从而对所述非金属涂层提供所述至少一种官能团，且其中所述方法进一步包括下面的步骤：

对所述非金属涂层的至少一部分表面施加包含具有至少一个官能团的至少部分氟化的化合物的组合物；以及

使所述至少部分氟化的化合物的至少一个官能团与所述非金属涂层的至少一种官能团进行反应，从而形成共价键。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述方法中没有施加含氟外涂层到所述非金属涂层的表面之上的步骤，特别是没有施加外涂层到所述非金属涂层的表面之上的步骤。

9.根据权利要求1至8中任一项制造的药物吸入装置或药物吸入装置的部件。

10.一种药物吸入装置或药物吸入装置的部件，其包括分别在所述装置或所述部件的至少一部分表面上等离子体沉积的非金属涂层，所述涂层是在离子轰击条件下等离子体沉积的。

11.根据权利要求10所述的装置或部件，其中所述装置或部件分别在所述非金属涂层上没有含氟外涂层，特别是在所述非金属涂层上没有外涂层。

12.一种药物吸入装置或药物吸入装置的部件，其包括分别在所述装置或所述部件的至少一部分表面上的非金属涂层以及与所述非金属涂层键合的含氟涂层，其中所述非金属涂层是在离子轰击的条件下沉积的等离子体沉积涂层，且其中所述含氟涂层包含至少部分氟化的化合物，所述至少部分氟化的化合物包含至少一个与所述非金属涂层共有至少一个共价键的官能团。

13.根据权利要求12所述的装置或部件，其中所述含氟涂层通过多个共价键与所述非金属涂层共价键合，具体地讲是通过包括O-Si基团中的键在内的多个共价键键合，更具体地讲是通过包括Si-O-Si基团中的键在内的多个共价键键合。

14.根据权利要求10至13中任一项所述的装置或部件，其中所述非金属涂层基本上不含氟，特别是不含氟。

15.根据权利要求10至14中任一项所述的装置或部件，其中所述非金属涂层包含硅和氧。

16.根据权利要求15所述的装置或部件，其中所述非金属涂层还包含氢。

17.根据权利要求15或权利要求16所述的装置或部件，其中所述非金属涂层还包含碳。

18.根据权利要求15至17中任一项所述的装置或部件，其中所述非金属涂层中的硅与氧之比小于2。

19.根据权利要求10至18中任一项所述的装置或部件，其中所述非金属涂层是钻石样玻璃涂层。

20.根据权利要求9至19中任一项所述的装置或部件，其中所述非金属涂层分别与所述装置或所述部件的至少一部分表面共价键合。

21.根据权利要求9至20中任一项所述的装置或部件，其中所述非金属涂层具有使用纳米硬度计测定为至少1GPa的微硬度和/或使用纳米硬度计测定为至少11GPa的微弹性模量。

22.一种药物吸入装置或药物吸入装置的部件，其包括分别在所述装置或所述部件的至少一部分表面上的钻石样玻璃涂层。