[发明专利]颗粒探测有效

专利信息
申请号: 200880124826.1 申请日: 2008-11-14
公开(公告)号: CN101952709A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 罗恩·诺克司;凯末尔·阿贾伊;卡尔·波特格 申请(专利权)人: 爱克斯崔里斯科技有限公司
主分类号: G01N21/53 分类号: G01N21/53;G08B17/107
代理公司: 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 代理人: 王昭林;崔华
地址: 巴哈马*** 国省代码: 巴哈马;BS
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摘要:
搜索关键词: 颗粒 探测
【权利要求书】:

1.一种被构造为探测空气体积中颗粒的颗粒探测系统,所述系统包括初级光源,所述初级光源被构造为产生光帘使其穿过至少部分受监测的体积。

2.根据权利要求1所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述系统进一步包括:

图像传感器,被放置为捕捉至少部分所述光帘的图像;

分析捕获的图像的装置,以基于在所述图像中捕捉到的散射辐射探测所述体积中颗粒的存在。

3.根据权利要求1或2所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述光帘使用光学装置产生以形成发散的光束。

4.根据权利要求1或2所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述光帘通过将线形光束扫过所述受监测的体积产生。

5.根据权利要求1-3中任意一项所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述光帘为平面状。

6.根据权利要求5所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述图像捕捉装置位于所述平面内。

7.一种在环境光水平下操作颗粒探测系统的方法,在所述环境光水平下将使所述系统的图像传感器在预定的孔径和第一曝光持续时间下发生饱和,所述方法包括:

确定不会引起所述图像传感器饱和的减少的曝光持续时间;

基于所述减少的曝光持续时间确定提高的图像捕捉频率。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,用因子N减少所述曝光时间以避免饱和,并用基本相同的因子N提高所述图像捕捉频率。

9.根据权利要求7或8所述的方法,其特征在于,所述提高的图像捕捉频率为每秒500幅图像以上。

10.根据权利要求7或8所述的方法,其特征在于,所述提高的图像捕捉频率为每秒600-2000幅图像。

11.一种被构造为探测空气体积中的颗粒的颗粒探测系统,所述系统包括:照明装置,用于发射辐射线使其穿过所述受监测的空气体积;图像传感器,被放置为捕捉至少部分所述辐射线的图像;分析捕获的图像的装置,以基于在所述图像中捕获的散射辐射来探测所述体积内颗粒的存在;

光源,被构造为照明表面,从而为至少延伸部分的所述受监测的体积提供背底;和

光传感器,适于接受从所述背底表面反射的光;

用于分析所述光传感器的输出以确定投射到所述背底表面上的阴影的存在的装置。

12.根据权利要求11所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述用于确定阴影的存在的装置包括:用于储存预先记录的参比图像的装置和用于将所述光传感器的输出与所述预先记录的参比图像进行对比从而确定阴影的存在的装置。

13.根据权利要求11或12所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述系统包括用于在探测到阴影时指示故障状态的故障提示装置。

14.根据权利要求3所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述故障提示装置包括用于确定故障状态持续时间的装置,其中所述系统被构造为在故障状态持续了预定的持续时间后指示故障状态。

15.根据权利要求11-14中任意一项所述的颗粒探测系统,其特征在于,用非准直或发散的光束照明所述表面。

16.根据权利要求11-15中任意一项所述的颗粒探测系统,其特征在于,被构造为照明表面的光源另外用于颗粒探测。

17.根据权利要求11-16中任意一项所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述光源发出准直的辐射线使其射入所述体积,并且所述光源扫过所述体积以照明所述表面的延伸部分。

18.根据权利要求11-17中任意一项所述的颗粒探测系统,其特征在于,所述光源发出非准直或发散的光束。

19.一种用于识别在AVSD系统的光传感器的至少部分视场内物体的存在的方法,所述方法包括:

·照明所述光传感器视场内的至少部分表面;

·分析所述光传感器的输出以确定表面照明的变化;和

·当所述光传感器的输出满足一项或多项预设的标准时识别出存在物体。

20.根据权利要求19所述的方法,其特征在于,所述分析光传感器的输出的步骤包括:将光传感器的输出与光传感器的参比输出进行比较。

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