[发明专利]光学补偿膜有效

专利信息
申请号: 200880125130.0 申请日: 2008-09-17
公开(公告)号: CN101918869A 公开(公告)日: 2010-12-15
发明(设计)人: 查尔斯·F·迪尔;斯蒂芬·F·哈恩;周伟俊 申请(专利权)人: 陶氏环球技术公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 吴培善
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 光学 补偿
【权利要求书】:

1.一种聚合物膜,该膜具有在0.001至0.05范围内的双折射率、在633纳米波长时的在25纳米至500纳米范围内的平面内延迟(R0)、以及在其未拉伸状态下的三个相互正交的折射率nx、ny和nz,条件是这三个折射率中的一个折射率具有超过另外两个折射率的大小并构成慢轴,从一个膜区域至另一个膜区域所述慢轴具有一致的方向,标准偏差在10度内。

2.一种拉伸的聚合物膜,该膜包含聚合物,该膜具有基于膜总重量的0.5重量%至低于20重量%的结晶度,并具有在633纳米波长时的0.001至0.05范围内的双折射率、以及在633纳米波长时的25纳米至500纳米范围内的平面内延迟(R0)。

3.根据权利要求1或2所述的膜,其中该膜具有平面内延迟(R0)的均一性,在633nm波长时R0的标准偏差不大于15纳米。

4.根据权利要求2所述的膜,其中所述结晶度至少为1%。

5.根据权利要求1所述的膜,其中该膜包含嵌段共聚物。

6.根据权利要求2所述的膜,其中所述聚合物为嵌段共聚物。

7.根据权利要求5或6所述的膜,其中所述嵌段共聚物为氢化的乙烯基芳族/丁二烯嵌段共聚物,其中乙烯基芳族嵌段和丁二烯嵌段两者均基本上完全氢化。

8.根据权利要求7所述的膜,其中所述乙烯基芳族/丁二烯嵌段共聚物为苯乙烯/丁二烯嵌段共聚物。

9.根据权利要求8所述的膜,其中所述苯乙烯/丁二烯嵌段共聚物是苯乙烯/丁二烯/苯乙烯三嵌段共聚物和苯乙烯/丁二烯/苯乙烯/丁二烯/苯乙烯五嵌段共聚物中的至少一种。

10.根据权利要求1所述的膜,其中该膜在其未拉伸状态下,折射率nx、ny和nz中至少一个折射率与其余折射率中至少一个折射率相差至少8x10-5

11.根据权利要求8所述的膜,其中在氢化前所述嵌段共聚物的苯乙烯含量在50重量%至低于80重量%范围内,丁二烯含量在50重量%至20重量%范围内,各百分比均基于嵌段共聚物总重量,且总和等于100重量%。

12.根据权利要求8所述的膜,其中所述嵌段共聚物的数均分子量在40,000至150,000范围内。

13.根据权利要求1所述的膜,其中该膜根据ASTM方法E-1348使用分光光度计和380纳米至780纳米波长范围测量的平均光谱透射百分率至少为80%。

14.根据权利要求1或2所述的膜,其中该膜具有根据在60℃和90%相对湿度下或80℃和5%相对湿度下为时24小时的耐久性测试测定的尺寸稳定性,该尺寸稳定性足以限制在膜长度方向和膜宽度方向中至少一个方向上的尺寸变化低于1%。

15.根据权利要求1或2所述的膜,其中该膜为单层膜或多层膜的至少一层。

16.根据权利要求5或6所述的膜,其中该膜进一步包含一定量的非嵌段共聚物。

17.根据权利要求16所述的膜,其中非嵌段共聚物的量在0.5重量%至50重量%范围内,基于嵌段共聚物和非嵌段共聚物的总重量。

18.根据权利要求1或2所述的膜,其中所述平面内延迟(R0)在633nm波长时为25纳米至250纳米范围内。

19.根据权利要求10所述的膜,其中折射率之差为至少1x10-4

20.根据权利要求16所述的膜,其中所述非嵌段共聚物选自下组:氢化乙烯基芳族均聚物、聚烯烃、环烯烃聚合物、环烯烃共聚物、丙烯酸类聚合物、丙烯酸类共聚物及它们的混合物。

21.根据权利要求1或2所述的膜,其进一步包含一定量的选自下组的添加剂:延迟增强剂、偏振改性剂和染料分子。

22.根据权利要求1或2所述的膜,其在该膜的至少一个主要平面表面上进一步包含涂层。

23.根据权利要求22所述的膜,其中所述涂层包含至少一种选自下组的添加剂:延迟增强剂、偏振改性剂和染料分子。

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