[发明专利]识别介质及其制造方法有效
| 申请号： | 200880125387.6 | 申请日： | 2008-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101925471A | 公开（公告）日： | 2010-12-22 |
| 发明（设计）人： | 星野秀一;坂内宗穗;佐佐木睦;井田亘;饭田奈穗实 | 申请（专利权）人： | 日本发条株式会社 |
| 主分类号： | B42D15/10 | 分类号： | B42D15/10;G03H1/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 闫小龙;王忠忠 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 识别 介质 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种识别介质，其特征在于，具有：从进行视觉辨认的一侧看，依次配置了胆甾型液晶层和印刷层的层结构，
在该胆甾型液晶层形成有用于显示全息图的凹凸，
该印刷层具有反射或吸收规定波长的光的规定图案。
2.根据权利要求1所述的识别介质，其特征在于，具有如下结构：
所述胆甾型液晶层在透光性的第一基板上形成，
所述印刷层在透光性的第二基板上形成，
将所述第一基板和所述第二基板贴合。
3.根据权利要求1所述的识别介质，其特征在于，所述印刷层在所述胆甾型液晶的形成了所述凹凸的面上设置。
4.一种识别介质的制造方法，其特征在于，具有：
在透光性的第一基板上形成胆甾型液晶层的工序；
在所述胆甾型液晶层的表面形成用于显示全息图的凹凸的工序；
在透光性的第二基板上形成印刷层的工序，该印刷层具有反射或吸收规定波长的光的规定图案；以及
贴合所述第一基板和所述第二基板的工序。
5.一种识别介质的制造方法，其特征在于，具有：
在透光性的第一基板上形成胆甾型液晶层的工序；
在所述胆甾型液晶层的表面形成用于显示全息图的凹凸的工序；以及
在所述胆甾型液晶层的形成了所述凹凸的面上形成印刷层的工序，该印刷层具有反射或吸收规定波长的光的规定图案。
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