[发明专利]从光纤或玻璃渣中回收GeCl4和/或SiCl4的方法以及由富含SiO2的材料制造SiCl4的方法无效
申请号: | 200880125481.1 | 申请日: | 2008-12-01 |
公开(公告)号: | CN101925537A | 公开(公告)日: | 2010-12-22 |
发明(设计)人: | 马里奥·贝热龙;阿兰·朗格莱 | 申请(专利权)人: | 国家科学研究学院 |
主分类号: | C01G17/04 | 分类号: | C01G17/04;C01B33/08 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 王昭林;崔华 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 加拿大;CA |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光纤 玻璃 回收 gecl sub sicl 方法 以及 富含 sio 材料 制造 | ||
1.一种由含有GeO2的材料制造GeCl4的方法,所述方法包括以下步骤:
-将含有氧化锗的材料碎渣与包含固体碳还原剂、氯气和硼化物的反应物按照以下反应式反应以获得含有气态GeCl4和气态BCl3的气态产物:
2BCl3(g)+1.5GeO2=1.5GeCl4(g)+B2O3
B2O3+1.5C+3Cl2=2BCl3(g)+1.5CO2;以及
-通过将气态产物的温度降低至GeCl4、SiCl4和BCl3的冷凝温度以下,使气态的GeCl4和BCl3冷凝为液态的GeCl4和BCl3。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括通过分馏将液态GeCl4和液态BCl3的混合物分离以获得高纯度的液态GeCl4和高纯度的液态BCl3。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述含有GeO2的材料还包含氧化硅,所述方法包括以下步骤:
-将含有氧化锗和氧化硅的材料碎渣与包含固体碳还原剂、氯气和硼化物的反应物按照以下反应式反应以获得含有气态GeCl4、气态SiCl4和气态BCl3的气态产物:
2BCl3(g)+1.5GeO2=1.5GeCl4(g)+B2O3
2BCl3(g)+1.5SiO2=1.5SiCl4(g)+B2O3
B2O3+1.5C+3Cl2=2BCl3(g)+1.5CO2;以及
-通过将气态产物的温度降至GeCl4、SiCl4和BCl3的冷凝温度以下,使气态GeCl4、SiCl4和BCl3冷凝为液态GeCl4、SiCl4和BCl3。
4.根据权利要求1或3所述的方法,其特征在于,将所得的GeCl4和/或SiCl4用于生产用于制造光纤的起始组分。
5.一种氯化SiO2玻璃中的GeO2的方法,所述方法包括以下步骤:
-将碎SiO2玻璃与包含固体碳还原剂、氯气和硼化物的反应物进行反应,以获得包含气态GeCl4、气态SiCl4和气态BCl3的气态产物;以及
-通过将气态产物的温度降低至GeCl4、SiCl4和BCl3的冷凝温度以下,使气态GeCl4冷凝为液态GeCl4。
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