[发明专利]使用伪惠勒空间的混合地层学分层有效

专利信息
申请号: 200880126023.X 申请日: 2008-01-28
公开(公告)号: CN101952742A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: W·罗斯 申请(专利权)人: 界标制图有限公司
主分类号: G01V1/00 分类号: G01V1/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 李玲;袁逸
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 使用 伪惠勒 空间 混合 地层学 分层
【说明书】:

背景技术

地层学分层是以地球科学为目的的地球建模中使用的过程,籍此通过在相关联的连续边界之间引入层来改善地球模型以增加模型的分辨率。一种沉积层序是由因为不整合面或其相关的表面在顶部和底部有界的原生关联地层构成的地层学单元。

具有地层学分层的地球模型可用于高分辨率地相和/或特性建模。地层学分层的一个目的是产生正确地反映层序的内部分层的层序的高分辨率细分。于图1-3中示出地层学分层的已有方法的例子,图中示出通过层序上边界105和层序下边界110分界的层序的面积-深度表示。在图1所示的自上而下的地层学分层中,例如115的引入层平行于层序上边界105。在图2所示的从下而上的地层学分层中,例如205的引入层平行于层序下边界110。在比例地层学分层中,如图3所示,例如305的每个引入层的宽度可变。在任意给定点p的每个引入层的宽度d正比于该点处的层序边界之间的空间D。

哈利E.惠勒在GEOLOGICAL SOCIETY OF AMERICA BULLETIN V75,PP.599-610(1964年7月)的题为“Baselevel,Lithosphere Surface,and Time-Stratigraphy(基线,岩石圈表面和时间地层学)”的论文中描述了一种从面积-时间而不是传统面积-深度的角度表示层序的方法。从被称为惠勒空间的面积-时间角度看,“垂直维是时间[而不是深度]并且……表达事件连续性的所有岩石圈表面-力矩是水平和平行的”。惠勒论文,606。

附图简述

图1-3示出地层学分层的现有技术方法。

图4示出由不整合面分界的层序。

图5示出在图4的地质记录中的断沟(时间线的恢复位置)。

图6示出惠勒空间中图4所示的层序。

图7示出伪惠勒空间中图5所示的层序。

图8示出在已执行地层学分层后图5(或图6)中的层序。

图9示出已转换至面积-深度空间的图8所示的层序。

图10示出一示例性恢复的空间地层学分层系统的流程图。

图11示出恢复的空间地层学分层系统的一示例性环境。

细节描述

图4示出地球模型中的层序405表示的一个例子。层序405在一侧由层序上边界410分界,而在另一侧由层序下边界415分界。

层序405包括三个子层序A、B和C。每个子层序由复杂的弧形边界分界。子层序A由低层边界AL和高层边界AU分界。子层序B由低层边界BL(与高层边界AU相同)和高层边界BU分界。子层序C由低层边界CL(与高层边界BU相同)和高层边界CU分界。

层序上边界410和层序下边界415两者均具有不整合面420、425。不整合面是将较新的地层与较老岩层分隔开并代表显著间断的侵蚀或非沉积表面。三个子层序A、B和C在层序上边界410上终止于不整合面420,而在层序下边界415上终止于不整合面425,这些不整合面表示层序任一侧上的地质记录中的断沟,如图5所示。这些断沟代表其中可能已发生沉积并随后侵蚀掉或不会发生沉积的地质记录中的断沟。

对地层学分层的已有方法可对层序405各部分使用自上而下或自下而上的地层学分层,其中顶部不整合面420和底部不整合面425彼此平行,并对层序405的其它部分采用比例分层。

在地层学分层的恢复空间方法的一个实施例中,层序从图4所示的面积-深度空间变换至恢复空间视图。例如,图6示出来自图4的层序405变换至惠勒空间,这是恢复空间的一个例子。在图4中复杂弯曲的间隔A、B和C的边界在图6中表现为水平线。图4中地质记录中的断沟605、610出现在层序的任一侧。在一个实施例中,可通过现成的工具(例如从dGB购得的OpendTect软件)实现至惠勒空间的变换。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于界标制图有限公司,未经界标制图有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880126023.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top