[发明专利]检测至少间接表明材料幅面处理装置中表面特性的至少一个值的设备和方法和优化该装置运行状况的方法

权利要求书

1.一种通过确定表面(2)的反射特性，尤其是反射比来检测至少间接地表示材料幅面处理装置(5)中的所述表面(2)的特性的至少一个参数的方法，其特征在于，借助至少一个发射源(7)照射在至少两个不同测量位置上的所述表面(2)，并且采用探测装置(12)在所述各测量位置(3，4，22)处检测至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在至少两个沿所述材料幅面处理装置(5)的机器纵向(MD)彼此间隔布置的测量位置(3，4，22)上检测至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在至少两个横向于所述机器方向(CD)间隔布置的测量位置(2，3，22)上检测至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

4.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在多个横向于机器方向(CD)的测量位置(3，4，22)处检测至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数，用于确定所述表面(2)的横断面。

5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，采用包括至少一个图像拍摄装置(13)的探测装置检测所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数，其中，在一评估装置(18)中评估所述图像。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，采用一个图像拍摄装置(13)尤其是照相机检测所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数并且在每个测量位置(3，4，22)的点分辨率大于10cm。

7.如权利要求5或6所述的方法，其特征在于，应用图像拍摄装置(13)，采用该图像拍摄装置通过各相应的图像片段可以同时以预定义的分辨率，优选大于20*20像素每质量值拍摄沿机器纵向(MD)/或横向(CD)的多个测量位置。

8.如权利要求5至7之一所述的方法，其特征在于，使用具有充分预先定义的像素分辨率的图像拍摄装置，以便在所述测量位置上形成一确定的、预定义的、优选大于1m的成像宽度。

9.如权利要求1至8之一所述的方法，其特征在于，在所述各测量位置(3，4，22)的至少一个上和/或各测量位置上同时检测不同的反射角(β1，β2)。

10.如权利要求1至9之一所述的方法，其特征在于，检测所述至少间接地表示反射特性，尤其是反射比的参数作为所述反射强度的大小。

11.如权利要求1至10之一所述的方法，其特征在于，持续在各测量位置(3，4，22)上检测所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

12.如权利要求1至11之一所述的方法，其特征在于，按一定时间间隔地检测所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

13.如权利要求1至12之一所述的方法，其特征在于，在移动的表面(2)上检测所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

14.如权利要求1至13之一所述的方法，其特征在于，在材料幅面表面(2)形式的移动表面(2)上测算出所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

15.如权利要求1至14之一所述的方法，其特征在于，沿所述材料幅面(6)的通过方向在彼此间隔布置的测量位置(3，4，22)上确定所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数，并且检测所述测量位置(3，4，22)之间表面(2)的反射比的变化。

16.如权利要求1至13之一所述的方法，其特征在于，在滚筒和/或材料幅面卷筒形式的旋转表面上确定所述至少间接地表示所述表面(2)的反射特性，尤其是反射比的至少一个参数。

17.如权利要求1至16之一所述的方法，其特征在于，将光洁度(G)作为至少间接地表示所述表面(2)的特性的参数确定为所述反射比的函数。