[发明专利]用于有机发光器件的基板、以及包括该基板的有机发光器件

权利要求书

1.用于有机发光器件(10)的基板，其包括光学指数为n0的透明基板(1)，该基板(1)载有在第一主面(11)上被称为下电极的电极(3)的第一透明或半透明涂层，并且该下电极包括层叠的以下各层：

-具有给定的光学厚度L1、且具有光学指数n1的抗反射子层，使得n1与n0的比率大于或等于6/5；

-具有给定厚度e1的第一金属层(30)，其布置在抗反射子层上；

-适配逸出功的覆盖层(35)，其具有给定的厚度e3，并布置在第一金属层上；

其特征在于，下电极(3)还包括：

-第一隔离层，其具有给定的光学厚度L2，并布置在第一金属层之上且在覆盖层之下；

-第二金属层(30′)，其具有本征的导电性能，并具有给定的厚度e2，此第二层布置在第一隔离层与覆盖层之间；

其特征在于，L1为20nm-120nm，L2为75nm-200nm，第一和第二金属层的厚度之和e1+e2小于或等于40nm；

并且其特征在于，下电极的薄层电阻小于或等于6Ω/carré。

2.权利要求1的基板(1)，其特征在于，L1小于或等于100nm，优选小于或等于80nm，并且/或者L2小于或等于160nm，优选130nm。

3.前述权利要求之一的基板(1)，其特征在于，L1小于L2。

4.前述权利要求之一的基板(1)，其特征在于，第一和第二金属层(30，30′)基于银，第一金属层的厚度e1小于或等于15nm，并且/或者第二金属层的厚度e2小于或等于15nm，且优选地，厚度e1大于厚度e2。

5.前述权利要求之一的基板(1)，其特征在于，下电极的薄层电阻小于或等于3Ω/carré。

6.前述权利要求之一的基板(1)，其特征在于，抗反射子层包括厚度大于或等于3nm的基层(2)，所述基层对碱金属形成阻隔层和/或蚀刻终止层，基层优选基本上覆盖基板的所述主面(11)，并且由基于氮化硅、碳氧化硅、氮氧化硅、或碳氧氮化硅的任选掺杂的材料制成。

7.前述权利要求之一的基板(1)，其特征在于，抗反射子层包括称为第一接触层(32)的基于金属氧化物和/或金属氮化物的层，其下邻第一金属层，并且/或者第一隔离层包括称为第二接触层(32′)的基于金属氧化物和/或金属氮化物的层，其下邻第二金属层。

8.权利要求7的基板(1)，其特征在于，第一和/或第二接触层(32，32′)基于任选掺杂的以下金属氧化物之一：氧化铬、氧化铟、任选不足化学计量的氧化锌、氧化铝、氧化钛、氧化钼、氧化锆、氧化锑、氧化锡、氧化钽或氧化硅，并且特征在于，第一和/或第二接触层的厚度优选大于或等于3nm。

9.权利要求7-8之一的基板(1)，其特征在于，第一和/或第二接触层(32，32′)基于掺杂或未掺杂的氧化锌。

10.权利要求7-9之一的基板(1)，其特征在于，抗反射子层包括由单一或混合的氧化物制成的第一非结晶平滑层(31)，所述平滑层(31)紧接布置在所述第一接触层(32)之下，并且由不同于第一接触层的材料制成，且优选直接在基板之上。

11.权利要求7-10之一的基板(1)，其特征在于，第一隔离层包括由单一或混合的氧化物制成的第二非结晶平滑层(31′)，所述第二平滑层(31′)紧接布置在所述第二接触层(32′)之下，并且由不同于第二接触层的材料制成。

12.权利要求10-11之一的基板(1)，其特征在于，第一和/或第二平滑层(31，31′)为基于单一或混合的氧化物的层，并基于以下金属的一种或多种：Sn、Si、Ti、Zr、Hf、Zn、Ga、In，尤其是基于锌和锡的Sn_xZn_yO_z的混合氧化物层，或基于混合氧化铟锡(ITO)层，或基于混合氧化铟锌(IZO)层。

13.权利要求10-12之一的基板(1)，其特征在于，子层几何厚度的至少60％由第一平滑层组成，并且/或者第一隔离层几何厚度的至少60％由第二平滑层组成。