[发明专利]旋转天线及包括该旋转天线的半导体装置有效

专利信息
申请号: 200880127604.5 申请日: 2008-03-04
公开(公告)号: CN101960928A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: 徐基源 申请(专利权)人: 技术发现者联合有限公司;徐基源
主分类号: H05H1/34 分类号: H05H1/34
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 旋转 天线 包括 半导体 装置
【权利要求书】:

1.一种旋转天线,包括:

多个线圈,该多个线圈并联到高频能量源并且以相对于轴成对称关系地围绕轴以规定间隔布置,其中,当所述线圈绕该轴旋转时,均匀地形成用于产生感应耦合等离子体的电磁场。

2.如权利要求1所述的旋转天线,其中所述线圈包括:

中心线圈,该中心线圈被施加高频能量并作为旋转中心轴;以及

多个支线圈,该多个支线圈围绕所述中心线圈以规定间隔布置,从而所述支线圈相对于该中心轴对称布置,并且支线圈在其第一端连接到中心线圈,每个支线圈远离中心线圈延伸然后朝着中心线圈延伸,支线圈在其第二端具有接地部分。

3.如权利要求1所述的旋转天线,其中大致上恒定的平均电压沿着远离线圈围绕着旋转的起点延伸的方向被施加给所述线圈。

4.如权利要求1所述的旋转天线,其中每个线圈由冷却剂流过的导体管形成。

5.一种半导体生产装置,包括:

用于接收晶片的室,该室被供应反应气体;以及

旋转天线,其包括多个线圈,该多个线圈并联到高频能量源并且以相对于轴成对称关系地围绕轴以规定间隔布置,

其中,当所述线圈绕该轴旋转时,均匀地形成用于产生感应耦合等离子体的电磁场。

6.如权利要求5所述的半导体生产装置,其中所述线圈包括被施加了高频能量并作为旋转中心轴的中心线圈、以及多个围绕所述中心线圈以规定间隔布置的支线圈,从而所述支线圈相对于该中心轴对称布置,支线圈在其第一端被连接到中心线圈以接收所述高频能量,所述支线圈在其第二端具有接地部分,所述接地部分邻近所述中心线圈布置。

7.如权利要求6所述的半导体生产装置,其中所述中心线圈和支线圈中的每一个具有冷却剂流过的冷却剂路径。

8.如权利要求5所述的半导体生产装置,其中所述旋转天线被旋转安装到所述室的外侧或者内侧。

9.如权利要求5所述的半导体生产装置,还包括:

转子,所述旋转天线被附接到该转子,用于与转子整体地旋转;以及

壳体,用于旋转支撑所述转子。

10.如权利要求9所述的半导体生产装置,其中所述壳体具有冷却剂供应部分和冷却剂排出部分,其中,所述转子具有冷却剂通道,冷却剂通过该冷却剂通道被传递到所述旋转天线,以及其中,在所述冷却剂供应部分和所述冷却剂通道之间、以及在所述冷却剂排出部分和所述冷却剂通道之间设置密封件。

11.如权利要求9所述的半导体生产装置,其中所述线圈包括被施加了高频能量并作为旋转中心轴的中心线圈、以及多个围绕所述中心线圈以规定间隔布置的支线圈,所述中心线圈和所述转子电绝缘,所述支线圈在其远端具有接地部分,所述接地部分和所述转子接地接触。

12.如权利要求5所述的半导体生产装置,还包括:

具有沿径向和圆周方向形成的气槽和气孔的气体供应板,用于均匀地喷射反应气体。

13.如权利要求5所述的半导体生产装置,其中大致上恒定的平均电压沿着远离所述线圈围绕着旋转的起点延伸的方向被施加给所述线圈。

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