[发明专利]打印头送给槽肋条有效

专利信息
申请号: 200880129027.3 申请日: 2008-05-06
公开(公告)号: CN102015315A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: B·D·钟;M·吉里;E·惠特克;S·P·麦克莱兰;A·菲利普斯;B·克拉克 申请(专利权)人: 惠普开发有限公司
主分类号: B41J2/175 分类号: B41J2/175;B41J2/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 薛峰
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 打印头 送给 肋条
【权利要求书】:

1.一种打印头(24,224,424,624),包括:

基片(32,232),其包括流体送给槽(40,240),所述流体送给槽具有相对的侧壁;和

所述基片(32,232)上的第一层(36,236),其至少部分地形成了流体喷发腔(42,242),所述层(36,236)形成了肋条(46,246,646),所述肋条与相对侧壁中的每一侧壁接触,并且在所述流体送给槽(40,240)内从所述侧壁中的第一个侧壁延伸到所述侧壁中的第二个侧壁。

2.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),其中所述第一层(36,236)包括基于环氧树脂的光致抗蚀剂。

3.根据权利要求2所述的打印头(424),其中所述第一层(36,236)包括SU-8光致抗蚀剂。

4.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),进一步包括:

第二层(238),其与所述肋条(46,246,646)间隔开;和

桁架(510),其在所述肋条(46,246,646)和所述第二层(34,234)之间延伸。

5.根据权利要求1所述的打印头(25,225,525,625),其中所述层(36,236)延伸到所述流体送给槽(40,240)中至少约10μ的深度。

6.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),其中所述层(36,236)延伸到所述流体送给槽(40,240)中至少约20μ的深度。

7.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),其中所述层(36,236)延伸到所述流体送给槽(40,240)中至少约40μ的深度。

8.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),其中所述喷发腔(42,242)中的每一个喷发腔接近所述肋条(46,246,646)中的单一肋条。

9.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),其中所述肋条(46,246,646)仅仅延伸跨过所述送给槽(40,240)以及在所述送给槽(40,240)内延伸。

10.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),其中所述流体喷发腔(42,242)包括第一组喷发腔(42,242)和第二组喷发腔(42,242),所述第一组喷发腔处于所述流体送给槽(40,240)的第一侧上,所述第二组喷发腔处于所述流体送给槽(40,240)的第二相对侧上,第二组喷发腔(42,242)在一个沿所述流体送给槽(40,240)的方向上从第一组喷发腔(42,242)偏移,其中所述肋条(46,246,646)仅仅延伸跨过所述流体送给槽(40,240)以及在所述流体送给槽(40,240)内延伸。

11.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),进一步包括:所述喷发腔(42,242)之上的孔口层(38,238),所述孔口层(38,238)在其处连接到并且接触所述肋条(46,246,646)。

12.根据权利要求11所述的打印头(24,224,424,624),其中所述第一层(36,236)和所述孔口层(38,238)由同样的材料制成。

13.根据权利要求12所述的打印头(24,224,424,624),其中所述第一层(36,236)和所述孔口层(38,238)由基于环氧树脂的光致抗蚀剂材料制成。

14.根据权利要求1所述的打印头(24,224,424,624),其中所述第一层(36,236)包括光致抗蚀剂材料,而所述打印头(24,224,424,624)进一步包括薄膜层(34,234),所述薄膜层形成晶体管,所述晶体管电连接到相邻于所述喷发腔(42,242)的电阻器(39,2329)。

15.根据权利要求14所述的打印头(24,224,424,624),其中所述第一层(36,236)具有至少约2.5μ的厚度并且重叠于所述薄膜层。

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