[发明专利]物理气相沉积装置及物理气相沉积方法

权利要求书

1.一种物理气相沉积装置，其特征在于，包括：

蒸发室，该蒸发室在内部具备蒸发源材料和对蒸发源材料进行加热的加热部，在规定的气体气氛中或大气中通过所述加热部对所述蒸发源材料进行加热而使其蒸发，由蒸发的原子生成微粒；

粉体供给源，该粉体供给源在内部具备粉体；

成膜室，该成膜室在内部具备混合部、与所述混合部连接的超音速喷管、成膜对象基板，所述混合部与形成从所述蒸发室移送含所述微粒的气体、从所述粉体供给源移送含所述粉体的气体的通路的移送管连接且使所述微粒和所述粉体混合，该成膜室使从所述蒸发室和所述粉体供给源移送的所述微粒和所述粉体承载于所述超音速喷管产生的超音速气流，从而使所述微粒和所述粉体物理气相沉积于所述成膜对象基板。

2.如权利要求1所述的物理气相沉积装置，其特征在于，所述微粒采用由金属形成的微粒。

3.如权利要求1或2所述的物理气相沉积装置，其特征在于，所述粉体采用由陶瓷形成的粉体。

4.一种物理气相沉积方法，其特征在于，包括：

通过使蒸发源材料蒸发的加热部对所述蒸发源材料在规定的气体气氛中或大气中加热而使其蒸发，由蒸发的原子生成微粒的生成工序；

将所述微粒和来自粉体供给源的粉体移送至混合部，在所述混合部中使所述微粒和所述粉体混合的混合工序；

使混合后的所述微粒和所述粉体承载于与所述混合部连接的超音速喷管产生的超音速气流，使所述微粒和所述粉体物理气相沉积于成膜对象基板，形成包含所述微粒和所述粉体的膜的成膜工序。

5.如权利要求4所述的物理气相沉积方法，其特征在于，所述微粒采用由金属形成的微粒。

6.如权利要求4或5所述的物理气相沉积方法，其特征在于，所述粉体采用由陶瓷形成的粉体。

7.一种物理气相沉积装置，其特征在于，包括：

蒸发室，该蒸发室在内部具备蒸发源材料和对蒸发源材料进行加热的加热部，在规定的气体气氛中或大气中通过所述加热部对所述蒸发源材料进行加热而使其蒸发，由蒸发的原子生成微粒；

粉体供给源，该粉体供给源在内部具备粉体；

成膜室，该成膜室在内部具备与形成从所述蒸发室移送含所述微粒的气体的通路的移送管连接的第一超音速喷管、与形成从所述粉体供给源移送含所述粉体的气体的通路的移送管连接的第二超音速喷管、成膜对象基板，使从所述蒸发室移送的所述微粒承载于所述第一超音速喷管产生的超音速气流，并使从所述粉体供给源移送的所述粉体承载于所述第二超音速喷管产生的超音速气流，从而使所述微粒和所述粉体物理气相沉积于所述成膜对象基板。

8.如权利要求7所述的物理气相沉积装置，其特征在于，所述微粒采用由金属形成的微粒。

9.如权利要求7或8所述的物理气相沉积装置，其特征在于，所述粉体采用由陶瓷形成的粉体。

10.一种物理气相沉积方法，其特征在于，包括：

通过使蒸发源材料蒸发的加热部对所述蒸发源材料在规定的气体气氛中或大气中加热而使其蒸发，由蒸发的原子生成微粒的生成工序；

移送所述微粒而使其承载于超音速喷管产生的超音速气流，并从粉体供给源移送粉体而使其承载于与所述超音速喷管不同的超音速喷管产生的超音速气流，使所述微粒和所述粉体物理气相沉积于成膜对象基板，形成包含所述微粒和所述粉体的膜的成膜工序。

11.如权利要求10所述的物理气相沉积方法，其特征在于，所述微粒采用由金属形成的微粒。

12.如权利要求10或11所述的物理气相沉积方法，其特征在于，所述粉体采用由陶瓷形成的粉体。