[发明专利]井流动控制系统和方法有效
申请号: | 200880131827.9 | 申请日: | 2008-11-03 |
公开(公告)号: | CN102203375A | 公开(公告)日: | 2011-09-28 |
发明(设计)人: | C·S·耶;B·A·戴尔;S·R·克林曼 | 申请(专利权)人: | 埃克森美孚上游研究公司 |
主分类号: | E21B17/00 | 分类号: | E21B17/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民;陆惠中 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流动 控制系统 方法 | ||
1.一种井流动控制系统,其包含:
管道,所述管道适于放入井内以限定井环状空间,其中所述管道具有外部部件,所述外部部件限定内部导流管,并且其中所述外部部件至少一部分是可透的,允许所述井环状空间和所述导流管之间的流体交换;
流动控制装置,所述流动控制装置适于放入所述管道的所述导流管内,其中所述流动控制装置包含至少一个导管限定构件和至少一个腔室限定构件;其中所述至少一个导管限定构件被配置成将所述导流管分成至少三个流动控制导管;其中所述至少一个腔室限定构件被配置成将所述至少三个流动控制导管中的至少两个分成至少两个流动控制腔室;其中所述至少两个流动控制腔室中的每个具有至少一个入口和至少一个出口;其中所述至少一个入口和所述至少一个出口中的每个适于允许流体从中流过并留阻大于预定大小的颗粒;并且其中所述至少三个流动控制导管中至少一个仅仅通过一个或多个流动控制腔室与所述井环状空间进行流体交换。
2.权利要求1所述的井流动控制系统,其中邻近流动控制导管内的所述流动控制腔室是流体偏置的,并处于流体交换。
3.权利要求1所述的井流动控制系统,其中从第一流动控制导管内形成的流动控制腔室出口流出的流体进入第二流动控制导管。
4.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述出口对大于预定大小的颗粒的留阻逐渐增加从所述流动控制腔室通过所述出口流动的阻力,直到通过所述出口的流体流动至少被基本阻断。
5.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述至少两个流动控制腔室置于所述管道的所述导流管内,使得通过所述外部部件的可透部分流入的流体进入至少一个流动控制腔室。
6.权利要求5所述的井流动控制系统,其中所述流动控制腔室的所述至少一个入口由所述管道的所述外部部件上的所述可透部分提供。
7.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述流动控制腔室的所述至少一个入口适于留阻第一预定大小的颗粒,并且其中所述流动控制腔室的所述至少一个出口适于留阻第二预定大小的颗粒。
8.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述流动控制腔室的至少一个入口和至少一个出口适于留阻具有至少基本上类似预定大小的颗粒;并且其中当所述至少一个入口损坏时,所述流动控制腔室适于逐渐留阻大于所述至少一个出口的预定大小的颗粒。
9.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述至少一个流动控制腔室的所述至少一个入口和所述至少一个出口是流体偏置的,并处于流体交换。
10.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述至少一个流动控制腔室中的流动是至少基本上纵向的;并且其中所述至少一个腔室限定构件至少基本上垂直于纵向而放置。
11.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述至少一个流动控制腔室内的流动是至少基本上圆周的;其中所述至少一个腔室限定构件至少基本上垂直于圆周方向而放置。
12.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述至少一个出口中的每个适于选择性开启,以控制从所述出口流过的流体。
13.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述至少两个流动控制腔室中至少一个包含至少两个出口,其中所述至少两个出口中的每个适于留阻不同预定大小的颗粒,并且其中所述至少两个出口中的每个适于选择性地对流体流动开启,以根据开启的出口选择性地留阻不同预定大小的颗粒。
14.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述至少一个流动控制腔室的所述入口形成于所述流动控制装置中;并且其中所述至少一个流动控制腔室的所述出口由所述外部部件的所述可透部分形成。
15.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述外部部件的所述可透部分提供至少一个流动控制腔室的入口;并且其中所述至少一个流动控制腔室的所述出口形成于所述流动控制装置中。
16.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述流动控制装置适于在置于井内的井管道中运行。
17.权利要求1所述的井流动控制系统,其中所述流动控制装置还包含刺激响应材料,所述材料适于合拢所述流动控制装置和所述外部部件之间的容许间隙。
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