[发明专利]光信号产生装置及其调整方法有效

专利信息
申请号: 200880131952.X 申请日: 2008-12-26
公开(公告)号: CN102210072A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 关口茂昭 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: H01S5/026 分类号: H01S5/026;G02F1/015;H04B10/04;H04B10/06;H04B10/142;H04B10/152
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 聂宁乐;向勇
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 信号 产生 装置 及其 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种光信号产生装置,其特征在于,具有:

单模激光器;

反射镜,其构成与所述单模激光器的谐振器不同的其他的谐振器,用于使来自所述单模激光器的输出光的一部分反射并返回到所述单模激光器;

强度调制器,其设置在所述单模激光器和所述反射镜之间;

相位调整器,其设置在所述单模激光器和所述反射镜之间,用于对因所述强度调制器的强度调制而产生的信号高电平状态和信号低电平状态之间的频率差进行调整。

2.根据权利要求1所述的光信号产生装置,其特征在于,具有波长滤波器,该波长滤波器设置在透过所述反射镜后的光入射的位置,用于将因所述强度调制器的强度调制而产生的频率调制变换为强度调制。

3.根据权利要求1或2所述的光信号产生装置,其特征在于,具有光放大器,该光放大器设置在所述单模激光器和所述反射镜之间。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的光信号产生装置,其特征在于,所述单模激光器是分布反馈型激光器或波长可变激光器。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的光信号产生装置,其特征在于,所述强度调制器是电场吸收型调制器。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的光信号产生装置,其特征在于,所述单模激光器、所述相位调整器、所述强度调制器中的两个以上形成在同一基板上。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的光信号产生装置,其特征在于,具有:

第一监控光电检测器,其用于接收来自所述单模激光器的输出光的一部分;

监控用波长滤波器,其用于使来自所述单模激光器的输出光的一部分透过或反射;

第二监控光电检测器,其用于经由所述监控用波长滤波器来接收来自所述单模激光器的输出光的一部分。

8.根据权利要求7所述的光信号产生装置,其特征在于,具有:

波长滤波器,其设置在透过所述反射镜后的光入射的位置,用于将因所述强度调制器的强度调制而产生的频率调制变换为强度调制;

第三监控光电检测器,其用于接收经由所述波长滤波器而输出的光的一部分。

9.根据权利要求7所述的光信号产生装置,其特征在于,所述第一监控光电检测器和所述第二监控光电检测器中的至少一个监控光电检测器,与所述单模激光器、所述相位调整器、所述强度调制器中的任意一个形成在同一基板上。

10.根据权利要求8所述的光信号产生装置,其特征在于,所述第一监控光电检测器、所述第二监控光电检测器和所述第三监控光电检测器中的至少一个监控光电检测器,与所述单模激光器、所述相位调整器、所述强度调制器中的任意一个形成在同一基板上。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的光信号产生装置,其特征在于,具有控制电路,该控制电路用于对所述相位调整器进行控制,使得因所述强度调制器的强度调制而生成的信号高电平状态和信号低电平状态之间的频率差成为与比特率相对应的频率差。

12.根据权利要求11所述的光信号产生装置,其特征在于,

具有波长滤波器,该波长滤波器设置在透过所述反射镜后的光入射的位置,用于将因所述强度调制器的强度调制而生成的频率调制变换成强度调制;

所述控制电路对所述相位调整器进行控制,使得经由所述波长滤波器而输出的光的消光比成为所期望的消光比。

13.根据权利要求1至10中的任一项所述的光信号产生装置,其特征在于,具有:

波长滤波器,其设置在透过所述反射镜后的光入射的位置,用于将因所述强度调制器的强度调制而生成的频率调制变换成强度调制;

控制电路,其用于进行第一控制和第二控制,

该第一控制是指,使所述单模激光器的振荡波长和所述波长滤波器的工作波长相适应的控制,

该第二控制是指,对所述相位调整器进行控制,使得经由所述波长滤波器而输出的光的消光比达到最大的控制。

14.根据权利要求13所述的光信号产生装置,其特征在于,所述控制电路进行第三控制,即,在所述频率差不为所期望的频率差且不为极大值时,对所述相位调整器进行控制,使得所述频率差达到所期望的频率差,另一方面,在所述频率差为极大值时,对所述强度调制器进行控制,使得消光比变大。

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