[发明专利]用于测量链的可重复性和可再现性的改进检查、特别是用于借助于半导体器件测试的质量控制的方法

权利要求书

1.一种用于测量链的可重复性和可再现性的改进检查，特别是用于借助于半导体器件测试的质量控制的方法，其中，针对将通过测量系统而经受测量或控制的多个且不同的器件提供测试步骤，所述测量系统包括在测试设备（ATE）与将经受测量或控制的每个器件之间的测量单元的至少一个串接，其特征在于其包括以下步骤： 

—检查形成所述串接的所述测量链的一部分的每种类型单元的可重复性和可再现性； 

—然后总体上进行在各种测量链之间的相关以使用经受测量或控制的相应器件来检查可重复性和可再现性。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述检查步骤包括将依赖于经受测量或控制的器件（DUT）的测量单元从不依赖于所述器件（DUT）的那些分离。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于其包括程序，该程序包括使用与所述测试设备（ATE）或与测量单元相关联的软件（SW）和/或硬件（HW）类型的固定装置来检查至少一个测量资源的可重复性和可再现性。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于其包括程序，该程序提供使用与所述测试设备（ATE）或与测量单元相关联的软件（SW）和/或硬件（HW）类型固定装置来检查至少一组测量资源的可重复性和可再现性，其中，至少两组有时还能够包括公共测量资源。

5.根据权利要求3或4所述的方法，其特征在于所述软件（SW）和/或硬件（HW）类型固定装置包括测试协议。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于其包括通过统计方法在M个不同的时间段或遍内并在不同的设备（ATE）上测量所述设备（ATE）的至少一个特性达到N次或遍。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于每当所述设备（ATE）在其内部被修改或环境条件修改不可忽略的量时执行所述测量。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于其使用统计方法来分析“ANOVA”类型的变化。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于当要经受测量或控制的设备是半导体晶片上的芯片时，在执行相关步骤之前在相同的操作条件中在至少两个不同的测量链上执行晶片的测试和重新测试步骤。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于检查可重复性和可再现性的所述步骤仅仅涉及对于测量将经受测量或控制的所述器件而言关键的所述测试设备（ATE）的测量单元的那些测量资源。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于其包括在设备（ATE）层级评估可重复性和可再现性的步骤，后面是在产品（DUT）层级评估可重复性和可再现性的步骤。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于以规则的间隔重复检查用于设备（ATE）的可重复性和可再现性的所述步骤。