[发明专利]涂层结构、用于形成其的化学组合物、及形成其的方法

权利要求书

1.一种涂层结构，包括：

形成于待涂覆基底表面的经紫外光固化的树脂层，该树脂层还包含有机 硅分子、蜡类细粉及纳米氧化物颗粒，该有机硅分子的有机硅基团自该树脂 层的表面延伸出来，该蜡类细粉与该纳米氧化物颗粒自该树脂层的表面露出 而形成微观的山峰-山谷结构；及

形成于该经紫外光固化的树脂层表面的氟化物单分子层，其中该氟化物 单分子层的氟化分子与该树脂层的表面形成化学键结，以露出含氟基团。

2.如权利要求1所述的涂层结构，其中该待涂覆基底包括塑料材料。

3.如权利要求1所述的涂层结构，其中该待涂覆基底包括非塑料材料。

4.一种用于形成涂层的化学组合物，包含：

100重量份的紫外光可固化树脂；

0.01至5重量份的有机硅分子；

0.1至5重量份的具有低表面能的蜡类细粉；及

0.5至5重量份的纳米氧化物颗粒。

5.如权利要求4所述的化学组合物，其中该有机硅分子包括硅烷类、硅 氧烷类、聚醚改性的有机硅或聚酯改性的有机硅。

6.如权利要求4所述的化学组合物，其中该蜡类细粉包括聚四氟乙烯、 聚乙烯、聚酰胺或聚丙烯。

7.如权利要求4所述的化学组合物，其中该蜡类细粉的粒径为10至50 微米。

8.如权利要求4所述的化学组合物，其中，该纳米氧化物颗粒包括三氧 化二铝、二氧化硅、氧化锌或二氧化铈。

9.一种形成涂层的方法，包括：

提供包含紫外光可固化树脂、有机硅分子、具有低表面能的蜡类细粉及 纳米氧化物颗粒的混合物；

将该混合物涂覆至待涂覆基底的表面上，从而形成涂覆层；

将该涂覆层加温及静置，使得该有机硅分子、具有低表面能的蜡类细粉 及纳米氧化物颗粒迁移至该涂覆层表面；

对该涂覆层照射紫外光以进行部分固化；

将该部分固化的涂覆层涂覆氟化物单分子层；

将已涂覆该氟化物单分子层的该涂覆层加热以活化该氟化物；及

对已加热活化的该涂覆层照射紫外光以完全固化。

10.如权利要求9所述的方法，其中由该混合物形成的该涂覆层的厚度 为5至50微米。

11.如权利要求10所述的方法，其中照射紫外光完全固化所需的照度为 100至1000mJ/cm²。

12.如权利要求9所述的方法，其中将该涂覆层加温及静置的步骤是在 60至80℃下烘烤该涂覆层30至180分钟。

13.如权利要求9所述的方法，其中进行部分固化时使用的紫外光照度 为完全固化所需紫外光照度的80％至90％。

14.如权利要求9所述的方法，其中将该部分固化的涂覆层涂覆该氟化 物单分子层的方法包括浸涂、喷涂或印刷。

15.如权利要求14所述的形成涂层的方法，其中该浸涂包括将该部分固 化的涂覆层浸涂氟化物溶液。

16.如权利要求15所述的方法，其中该氟化物溶液包含含量为10％以 下的全氟聚醚及含量为90％以上的有机溶剂。

17.如权利要求16所述的方法，其中将该部分固化的涂覆层浸涂该氟化 物溶液的步骤包括：

使该部分固化的涂覆层停留于该氟化物溶液中10至30秒；及

以50至2000mm/min的速度拉起该涂覆层。

18.如权利要求17所述的方法，其中，将该部分固化的涂覆层浸涂该氟 化物溶液的步骤在24至26℃的环境温度及45％至55％的相对湿度下进行。

19.如权利要求9所述的方法，其中，该待涂覆基底包括塑料材料，并 且该加热活化的步骤在60至80℃下进行。

20.如权利要求9所述的方法，其中，该待涂覆基底包括非塑料材料， 并且该加热活化的步骤在120至150℃下进行。