[发明专利]内建启动晶体管的功率晶体管芯片及其应用电路有效

专利信息
申请号: 200910002712.6 申请日: 2009-01-19
公开(公告)号: CN101783344A 公开(公告)日: 2010-07-21
发明(设计)人: 黄志丰 申请(专利权)人: 立锜科技股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/085;H01L23/522;H02M3/335;G05F1/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蹇炜
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 启动 晶体管 功率 芯片 及其 应用 电路
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种电压调节器(Voltage Regulator)电路,且尤其涉及一种内 建结型场效应晶体管(Junction Field Effect Transistor,简称JFET)与金属氧 化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor, 简称MOSFET),以作为启动晶体管的功率晶体管芯片及应用此芯片的交/ 直流电压转换电路。

背景技术

随着半导体科技的快速演进,使得例如计算机及其外围数字产品等也 日益地更新。在计算机及其外围数字产品的应用集成电路(Integrated Circuit,简称IC)中,由于半导体工艺的快速变化,造成集成电路电源的更 多样化需求,以致应用如升压器(Boost Converter)、降压器(Buck Converter) 等各种不同组合的电压调节器电路,来达成各种集成电路的不同电源需求, 也成为能否提供多样化数字产品的极重要因素之一。在各种电压调节器电 路中,交/直流电压转换电路(AC/DC Voltage Converter)由于能将一般市售的 交流电源转换为所需稳定的直流电源输出,因而广泛地作为电压调节器电 路的前级电路使用。

参照图1所示,其为现有的一种交/直流电压转换电路图,图中显示, 交/直流电压转换电路10包括:桥式整流电路11、功率晶体管芯片12、脉 宽调制(Pulse Width Modulation,简称PWM)电路13、启动(Start Up)电路14、 变压器电路15、滤波与反馈电路16与工作电源电路17。其中,脉宽调制 电路13用于依据输出的直流电源Vo的反馈电压大小,来产生调制的脉宽 调制信号,由此控制并输出稳定的直流电源Vo。但是,脉宽调制电路13 通常需依赖低压直流电源来驱动,而交/直流电压转换电路10启始时,并无 可供脉宽调制电路13工作所需的直流电源,因而应用图中的启动电路14 与工作电源电路17,来接续提供其运作所需的电源。

交/直流电压转换电路10启始时,桥式整流电路11的输出端会输出具 有纹波的直流电源,因此,即可通过组成启动电路14的电阻引入脉宽调制 电路13中,以作为其启始运作的电源。之后,脉宽调制电路13即得以开 始正常工作,以依据输出的直流电源Vo的反馈电压大小,来产生调制的脉 宽调制信号,由此控制功率晶体管芯片12的功率晶体管的启闭时间长短, 进而输出稳定的直流电源Vo。在交/直流电压转换电路10启动并输出稳定 的直流电源Vo后,连接变压器电路15的工作电源电路17,即可接手提供 较为稳定的工作电源,使脉宽调制电路13可以更为稳定地工作。

前述作法虽可使交/直流电压转换电路10正常地工作,然而,当电路稳 定工作后,启动电路14应可功成身退但却仍处于其原始状态,于工作效能 而言,不免有所缺失。因此,如图2与图3所示,以耗尽型金属氧化物半 导体场效应晶体管(Depletion Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor,简称Depletion MOSFET)221与331来取代,并通过脉宽调制电 路23或33输出的启动信号st,来分别断开耗尽型金属氧化物半导体场效 应晶体管221与331的运作,以节省功率的消耗。

图2与图3不同的是,耗尽型金属氧化物半导体场效应晶体管221与 331,分别整合于功率晶体管芯片22与脉宽调制电路33的芯片中。但是, 无论采用何方式,应用耗尽型金属氧化物半导体场效应晶体管221或331, 来作为启动电路的交/直流电压转换电路,其芯片的制造过程,都会因为耗 尽型金属氧化物半导体场效应晶体管221或331所增加的沟道(N沟道或P 沟道)工艺,使得其芯片的工艺更为复杂。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的是提供一种功率晶体管芯片及应用此芯片的 交/直流电压转换电路,其使用结型场效应晶体管结合金属氧化物半导体场 效应晶体管来作为启动电路,并将结型场效应晶体管与金属氧化物半导体 场效应晶体管,内建于功率晶体管芯片中。因此,不仅具有节省功率消耗 的功效,更不会增加额外的掩膜与工艺,进而可简化工艺、节省成本。

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