[发明专利]利用光学显微镜的光刻系统无效
申请号: | 200910003167.2 | 申请日: | 2009-01-08 |
公开(公告)号: | CN101546130A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 金奎兑;朴应皙;张度永;李在祐 | 申请(专利权)人: | 高丽大学校产学协力团 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B21/00 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 谢 静;杨 勇 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 光学 显微镜 光刻 系统 | ||
1.一种利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,包括:
光学显微镜部,利用具有使感光剂反应的波长的光源对涂敷在衬底上的感光剂表面对焦并进行曝光;
载物台部,与上述光学显微镜部的下部连接,装载有上述涂敷了感光剂的衬底,以只对所期望的感光剂部位照射光源的方式移动上述衬底;
控制部,控制上述光学显微镜部和载物台部的整个系统。
2.根据权利要求1所述的利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,上述光学显微镜部包括:
光源部,产生具有可使感光剂反应的波长的光源;
光源控制部,具有:光圈,装载于由上述光源部产生的光源的路径上,并缩小、扩大、变化光源的形状;遮挡部,根据分离的图案使光源曝光时,以使光源不能传到不期望的区域的方式遮挡光源;
光学显微镜,传输通过上述光源控制部的光,对涂敷了感光剂的衬底表面对焦并进行曝光。
3.根据权利要求2所述的利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,上述光源部选择性地产生具有可使涂敷在衬底上的感光剂反应的波段的光源。
4.根据权利要求2所述的利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,上述光学显微镜将上述光源部产生的光源对涂敷了感光剂的衬底表面对焦后照射,此时,只曝光要形成图案的区域并进行光刻。
5.根据权利要求1所述的利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,上述载物台部包括:
第一载物台,可沿着X轴移动;
第二载物台,与上述第一载物台结合,可沿着Y轴移动;以及
驱动马达,驱动上述第一及第二载物台。
6.根据权利要求1所述的利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,上述控制部包括:
光源控制模块,对上述光学显微镜部的光源部的光源产生、上述光源控制部的光圈以及遮挡部进行控制;
载物台控制模块,对上述载物台部驱动以微米单位进行精密控制;
数据处理模块,通过分析图案将对光源控制所需的控制信号传输给上述光源控制模块,并将使上述载物台部正确移动的控制信号传输给上述载物台控制模块。
7.根据权利要求6所述的利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,
上述控制部,分析由用户输入的图案的形状及大小并决定光的形状及大小,由此控制光源控制部,根据图案精密控制上述载物台部的移动。
8.根据权利要求6所述的利用光学显微镜的光刻系统,其特征在于,
上述控制部还包括接口模块,执行与上述光学显微镜部及载物台部的接口连接,并对通过上述光学显微镜部的图案形成过程进行监控。
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