[发明专利]感光糊组合物、用其制备的障壁、及等离子体显示面板无效

专利信息
申请号: 200910003581.3 申请日: 2009-01-20
公开(公告)号: CN101493651A 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 李范旭;崔钟书;崔龟锡;姜东贤;林明德 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/075;G03F7/00;H01J9/227;C09J133/02;C09J133/04;C08L33/02;C08L33/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋 莉
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 感光 组合 制备 等离子体 显示 面板
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请要求2008年1月22日在韩国知识产权局提交的韩国申请No. 2008-6708的优先权,其公开内容引入本文作为参考。

技术领域

本发明的各方面涉及感光糊组合物、使用该组合物制备的用于等离子体 显示面板(PDP)的障壁、以及包括该障壁的PDP。更具体而言,本发明的各 方面涉及使得可通过单次曝光制备用于高分辨率和高精度PDP的障壁图案 并提供与常规障壁相比具有更高反射率的障壁的感光糊组合物、使用该组合 物制备的用于PDP的障壁、以及包括该障壁的PDP。

背景技术

在等离子体显示面板(PDP)结构中,障壁形成于下面板(或后基板)上以获 得放电空间并抑制相邻单元之间的电和光学串绕。障壁图案根据PDP的类 型而不同,并可为条型或矩阵型。障壁还可具有各种尺寸(宽度和节距 (pitch))。

障壁可在下面板上形成寻址电极及寻址电极上形成介电材料后使用喷 砂方法、蚀刻方法或光刻方法形成。

关于光刻法,在美国专利No.6,197,480中公开了一种通过将有机和无机 组分的折射率之间的差值最小化以减少在有机和无机组分之间的界面处的 反射和散射经过单次曝光过程形成障壁的方法。美国专利No.6,117,614公开 了一种通过如美国专利No.6,197,480所述将有机和无机组分的折射率之间 的差值最小化并使用利用光-酸产生剂的化学放大型交联来抑制氧气对交联 反应产生不利影响的方法。

与通过喷砂制造的障壁相比,根据这些公开的光刻方法,可更简单地制 造具有高分辨率的障壁。然而,上述光刻方法具有根本的缺点。尽管当使用 喷砂方法或蚀刻时使用预定量的二氧化钛、氧化铝、氧化钇或氧化锌粉末以 改善反射性,但这种粉末不能用于单次曝光光刻方法,因为所述粉末具有非 常高的折射率,以致未能使有机组分的折射率最小化和防止在曝光期间照射 的紫外线的透射。因此,如果这种粉末用于上述光刻方法中,则多于一次的 曝光可为必需的。

发明内容

本发明的各方面提供使得可通过单次曝光制备高分辨率和高精度的等 离子体显示面板(PDP)的障壁图案并提供与常规障壁相比具有更高反射率的 障壁的感光糊组合物、使用该组合物制备的用于PDP的障壁、以及包括该 障壁的PDP。

根据本发明的实施方式,提供感光糊组合物,包括:分散于有机材料中 的氟化物溶胶;和无机材料,其中该氟化物溶胶的平均折射率N1和该无机 材料的平均折射率N2满足以下数学式1:

数学式1

-0.2≤N1-N2≤0.2。

根据本发明的另一方面,通过将该感光糊组合物图案化制备用于等离子 体显示面板(PDP)的障壁。

根据本发明的另一方面,提供包括该障壁的等离子体显示面板(PDP)。

本发明另外的方面和/或优点将在以下描述中部分地进行阐述并且将从 该描述中部分地显现,或者可通过本发明的实践获知。

附图说明

本发明的这些和/或其它方面和优点将从以下结合附图考虑的实施方式 的描述中变得明晰和更易理解,在附图中:

图1是根据本发明实施方式的等离子体显示面板(PDP)的透视图。

具体实施方式

现在将详细提及本发明的当前实施方式,其实例说明于附图中,其中相 同的附图标记始终是指相同的元件。下面通过参照附图描述各实施方式以解 释本发明。

根据本发明各方面的感光糊组合物包括:分散于有机材料中的氟化物溶 胶;和无机材料,其中氟化物溶胶的平均折射率N1和无机材料的平均折射 率N2满足以下数学式1:

数学式1

-0.2≤N1-N2≤0.2

根据本发明各方面的感光糊组合物包括可与常规感光糊组合物区别开 来的氟化物溶胶。该氟化物溶胶为其中具有几纳米至几十纳米尺寸的氟化物 化合物颗粒分散于有机材料中的溶胶。氟化物化合物可以其中不发生团聚或 沉淀的稳定状态分散于有机材料中并可与无机材料混合。与常规感光障壁相 比,使用包括这种氟化物溶胶的感光糊制备的障壁通过增大反射率而具有改 善的亮度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910003581.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top