[发明专利]透镜阵列、曝光头及图像形成装置无效

专利信息
申请号: 200910003724.0 申请日: 2009-02-01
公开(公告)号: CN101497275A 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 小泉龙太;野村雄二郎;宗和健;井熊健 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/447 分类号: B41J2/447;H04N1/03;G03G15/01
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 透镜 阵列 曝光 图像 形成 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及使用透镜将光成像的透镜阵列、具备该透镜阵列的曝光头及具备该曝光头的图像形成装置。

背景技术

作为这样的曝光头,例如在专利文献1的图2等中所记载一样,公知的有将大致圆形的透镜在长度方向上排列多个的线头(line head)。在该线头中,在长度方向上以规定的间距排列有透镜,各透镜将从发光元件入射的光进行成像。还有,各透镜利用成像的光将感光体鼓等潜影担载体曝光,从而形成潜影。

【专利文献1】:日本特开平6—278314号公报

还有,从良好地进行曝光的观点来说,入射于透镜的光的量多为佳。因此,例如,考虑了增大透镜。然而,上述以往技术的透镜为大致圆形,因此,在透镜变大的情况下,长度方向(第一方向)上的透镜间距变大,可能导致得不到期望的析像度。即,在以往的技术中,相对于向透镜的入射光量的增多,析像度有时反而降低。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而做成的,其目的在于提供在高析像度下也能够将大量的光取入透镜,从而能够进行良好的曝光的技术。

本发明的曝光头为了实现上述目的,其特征在于,具备:透镜阵列,其在第一方向上配设有透镜;发光元件基板,其配设有发出利用透镜成像的光的发光元件,其中,第一方向的透镜的长度L1及与第一方向正交的第二方向的透镜的长度L2具有下述式的关系,即:1<L2/L1。

另外,本发明的透镜阵列,为了实现上述目的,其特征在于,具备:透镜,其配设于第一方向上,其中,第一方向的透镜的长度L1及与第一方向正交的第二方向的透镜的长度L2具有下述式的关系,即:1<L2/L1。

另外,本发明的图像形成装置为了实现上述目的,其特征在于,具备曝光头,该曝光头具有:透镜阵列,其在第一方向上配设有透镜;发光元件基板,其配设有发出利用透镜成像的光的发光元件,其中,第一方向的透镜的长度L1及与第一方向正交的第二方向的透镜的长度L2具有下述式的关系,即:1<L2/L1。

在这样构成的发明(曝光头、透镜阵列、图像形成装置)中,第一方向上的透镜的长度L1及与第一方向正交或大致正交的第二方向上的透镜的长度L2满足下述式的关系,即:1<L2/L1。从而,不会扩大在第一方向上配设的透镜的间距,能够在第二方向上将大量的光量取入透镜,从而能够进行良好的曝光。

另外,第一方向上的透镜的长度L1及第二方向上的透镜的长度L2满足下述式的关系也可,即:L2/L1<1.2。通过这样构成,抑制第一方向上的透镜的长度L1和第二方向上的透镜的长度L2之差,能够容易地形成散光少的透镜,因此,能够简便地实现良好的曝光。

另外,对于在发光元件和透镜之间具备光圈的结构,也能够适用本发明。还有,如上所述,在本发明中,透镜具备能够在第二方向上取入大量的光量的特性,另一方面,光圈遮蔽从发光元件朝向透镜的光的一部分。从而,从有效地应用本发明的透镜的特性的观点来说,为了抑制光圈产生的无用的遮光,有效利用来自发光元件的光,光圈的形状适合有利于在第二方向上将大量的光量取入透镜的形状。因此,第一方向的光圈的长度La1及第二方向的光圈的La2满足下述式的关系也可,即:1<La2/La1。由此,能够在第二方向上将更多的光量取入透镜,能够进行良好的曝光。

此时,第一方向的透镜的长度L1、第二方向的透镜的长度L2、第一方向的光圈的长度La1、第二方向的光圈的La2满足下述式也可,即:L2/L1=La2/La1。由此,能够更有效地利用来自发光元件的光。

进而,透镜的形状与光圈的形状相似也可。由此,能够更有效地利用来自发光元件的光。

还有,光圈的形状可以为椭圆形。

另外,可以将透镜构成为来自发光元件的光的入射面为凸面。此时,光圈配设于比透镜的顶点更靠像面侧,由此,能够进一步提高来自发光元件的光的利用效率。

另外,透镜为自由曲面透镜也可。因为通过采用自由曲面透镜,提高透镜的成像特性,能够实现更良好的曝光。

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