[发明专利]滤色器及其制造方法以及液晶显示装置无效

专利信息
申请号: 200910004861.6 申请日: 2009-01-21
公开(公告)号: CN101493649A 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 山岸庸恭;安藤豪;匹田政宪 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G02B5/20;G02F1/1335
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱 丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 滤色器 及其 制造 方法 以及 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种滤色器的制造方法,其具有:

黑矩阵形成工序,通过使用感光性黑色组合物在基板上形成感光性黑色组合物层、将所述感光性黑色组合物层曝光以及将曝光后的所述感光性黑色组合物层显影来形成下述黑矩阵图案,然后将所形成的黑矩阵图案烘烤,其中,所述黑矩阵图案位于从所述感光性黑色组合物层内的上部端向所述基板的法线方向延伸的线与所述感光性黑色组合物层内的下部端之间在黑矩阵宽度方向上的距离为-3.0μm~+3.0μm范围的位置;和

着色图案形成工序,通过使用感光性着色组合物在烘烤后的形成有黑矩阵的所述基板上形成感光性着色组合物层、将所述感光性着色组合物层曝光、将曝光后的所述感光性着色组合物层显影、将显影后的所述感光性着色组合物层烘烤来形成着色图案,其中,该烘烤后的、该着色图案与所述黑矩阵相重叠的重叠部在黑矩阵宽度方向上的长度为1.0μm~12μm。

2.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,在所述基板上形成的所述感光性黑色组合物层的厚度为0.2μm~2.2μm。

3.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,在所述黑矩阵形成工序中的所述显影中,显影温度为20℃~35℃,显影时间为20秒~120秒。

4.根据权利要求3所述的滤色器的制造方法,其中,所述显影温度为20℃~30℃,所述显影时间为30秒~70秒。

5.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,所述黑矩阵形成工序中在形成所述感光性黑色组合物层之后、所述曝光之前还含有预烘烤。

6.根据权利要求5所述的滤色器的制造方法,其中,所述预烘烤中的预烘烤温度为65℃~120℃。

7.根据权利要求5所述的滤色器的制造方法,其中,所述预烘烤中的预烘烤时间为50秒~300秒。

8.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,在所述着色图案形成工序中的所述曝光中,隔着掩模图案进行曝光,曝光图案与黑矩阵的交叠部分在黑矩阵宽度方向上的长度为3.0μm~8.0μm。

9.根据权利要求8所述的滤色器的制造方法,其中,在所述着色图案形成工序中的所述显影中,显影温度为20℃~35℃,显影时间为20秒~120秒。

10.根据权利要求8所述的滤色器的制造方法,其中,在所述着色图案形成工序中,曝光图案与黑矩阵的交叠部分在黑矩阵宽度方向上的长度为2.0μm~10μm,所述显影温度为20℃~35℃,所述显影时间为20秒~120秒。

11.根据权利要求10所述的滤色器的制造方法,其中,所述长度为3.0μm~8.0μm,所述显影温度为20℃~30℃,显影时间为30秒~70秒。

12.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,所述重叠部距离基板表面最远的部分与所述重叠部以外的部分之间在基板的法线方向上的距离为0.5μm以下。

13.根据权利要求1所述的滤色器的制造方法,其中,感光性着色组合物层的层厚为0.5μm~3.0μm。

14.一种滤色器,其是用权利要求1~13中任一项所述的滤色器的制造方法制造的滤色器,具有黑矩阵与着色图案相重叠的重叠部,所述重叠部在黑矩阵宽度方向的长度为1.0μm~12μm。

15.根据权利要求14所述的滤色器,其中,在所述着色图案的表面,所述重叠部距离基板表面最远的部分与所述重叠部以外的部分之间在基板的法线方向上的距离为0.50μm以下。

16.一种液晶显示装置,其具有权利要求14所述的滤色器。

17.一种液晶显示装置,其具有权利要求15所述的滤色器。

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