[发明专利]一种稀土精细抛光材料及其制造工艺无效

专利信息
申请号: 200910004984.X 申请日: 2009-02-20
公开(公告)号: CN101486879A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 张存瑞;崔爱端 申请(专利权)人: 包头迅博新材料有限公司
主分类号: C09G1/18 分类号: C09G1/18
代理公司: 包头市专利事务所 代理人: 张少华
地址: 014010内蒙古自治区*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 一种 稀土 精细 抛光 材料 及其 制造 工艺
【权利要求书】:

1、一种稀土精细抛光材料,其特征是:抛光材料由La2O3、CeO2和Pr6O11,组成,各组分按重量比所占比例是:La2O3:CeO2:Pr6O11=0.4~0.55:1:0.07~0.082。

2、根据权利要求1所述的稀土精细抛光材料,其特征是:抛光材料的比表面积为2.8-6.2m2/g,粒度分布D10>0.1μm,D50=0.9-1.1μm,Dmax<5μm,拱度[(D90-D10)]/D50<2.6。

3、根据权利要求1所述的稀土精细抛光材料,其特征是:抛光材料的铈含量按重量比CeO2/TREO=65-90%,TRE0=86-95%。

4、根据权利要求1所述的稀土精细抛光材料,其特征是:抛光材料的X光衍射图主峰LaOF:CeO2>40%。

5、根据权利要求1所述的稀土精细抛光材料,其特征是:抛光材料每公斤过500目筛的筛上物不超过0.003克,抛光材料10wt%的水悬浮液PH值为6-7。

6、一种如权利要求1所述的稀土精细抛光材料的制造工艺,其特征是:用碳酸稀土和水混合的浆料经湿磨,再经精密水分级,控制粒度分布范围在20μm~0.2μm之间,使粒度分布均匀,氟化、过滤、烘干,其中:按重量比碳酸稀土:水=1:2~3;将分选出的物料采用梯度升温的煅烧制度使比表面积控制在1.8-12m2/g之间,梯度升温由600℃开始,最高温度不超过1150℃,总煅烧时间6-8小时。

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