[发明专利]测量和监控曝光机台的数值孔径的方法、控片和光掩模

权利要求书

1.一种测量曝光机台的数值孔径的方法，该曝光机台的光源具有照光图案，该方法包括：

提供控片，其上有多个刻度尺标记；

提供像差光掩模，其上有多个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置；

使用该曝光机台与该像差光掩模对该控片进行光刻工艺，以在每一个刻度尺标记上方形成形状与该照光图案相同的光致抗蚀剂图案；以及

由该光致抗蚀剂图案外缘所对应的该刻度尺标记的刻度求得该曝光机台的数值孔径。

2.如权利要求1所述的测量曝光机台的数值孔径的方法，其中该光致抗蚀剂图案包括形成于该控片上的正光致抗蚀剂层中的至少一开口。

3.如权利要求1所述的测量曝光机台的数值孔径的方法，其中各该刻度尺标记包括至少一有刻度线状图案。

4.如权利要求3所述的测量曝光机台的数值孔径的方法，其中各该刻度尺标记包括：X向有刻度直线图案、Y向有刻度直线图案、45°角有刻度直线图案及-45°角有刻度直线图案，该四有刻度直线图案的中点互相重合。

5.如权利要求1所述的测量曝光机台的数值孔径的方法，其中该光源为面光源。

6.如权利要求1所述的测量曝光机台的数值孔径的方法，其中该光源为偏轴式光源。

7.如权利要求6所述的测量曝光机台的数值孔径的方法，其中该偏轴式光源的照光图案为环状照光图案、X偶极照光图案、Y偶极照光图案或四极照光图案。

8.一种控片，用以测量曝光机台的数值孔径，该控片上有多个刻度尺标记。

9.如权利要求8所述的控片，其中各该刻度尺标记包括至少一有刻度线状图案。

10.如权利要求9所述的控片，其中各该刻度尺标记包括：X向有刻度直线图案、Y向有刻度直线图案、45°角有刻度直线图案及-45°角有刻度直线图案，该四有刻度直线图案的中点互相重合。

11.如权利要求8所述的控片，其中各该刻度尺标记的大小为0.1～1mm，且任两相邻刻度尺标记的间距为1.0～3.0mm。

12.如权利要求8所述的控片，其中在各该刻度尺标记中，两相邻刻度的间距为0.05～0.1μm。

13.一种用以制作控片的光掩模，其上有多个刻度尺标记图案，而可使该控片具有多个刻度尺标记。

14.如权利要求13所述的用以制作控片的光掩模，其中各该刻度尺标记图案包括至少一有刻度线状图案。

15.如权利要求14所述的用以制作控片的光掩模，其中各该刻度尺标记图案包括：X向有刻度直线图案、Y向有刻度直线图案、45°角有刻度直线图案及-45°角有刻度直线图案，该四有刻度直线图案的中点互相重合。

16.如权利要求13所述的用以制作控片的光掩模，其中各该刻度尺标记图案的大小为0.1～1mm。

17.如权利要求13所述的用以制作控片的光掩模，其中各该刻度尺标记图案中，两相邻刻度的间距为0.05～0.1μm。

18.一种监控曝光机台的数值孔径的方法，该曝光机台的光源具有照光图案，该方法包括：

提供控片，其上有多个刻度尺标记；

提供像差光掩模，其上有多个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置；

依照所需数值孔径来设定该曝光机台；

使用该曝光机台与该像差光掩模对该控片进行光刻工艺，以在每一个刻度尺标记上方形成形状与该照光图案相同的光致抗蚀剂图案；

由该光致抗蚀剂图案外缘所对应的该刻度尺标记的刻度求得该曝光机台的实际数值孔径；

将该实际数值孔径与该所需数值孔径比较，并根据比较结果调整该曝光机台；以及

建立该曝光机台的数值孔径数据库。

19.如权利要求18所述的监控曝光机台的数值孔径的方法，其中该数据库包含下述数据：对应该所需数值孔径的设定参数值、该实际数值孔径，以及该比较与该调整的结果。