[发明专利]检测掩模缺陷的方法,计算机程序和基准衬底

权利要求书

1.一种检测图案形成装置中的缺陷的方法，包括以下步骤：

在光刻处理过程中，使用图案形成装置来在一种基准衬底上印刷一种基准图形；

接着在光刻处理过程中，使用同一所述图案形成装置来在一种不同于所述基准衬底的生产衬底上曝光一种用于制造器件的图案；

在光刻处理过程中，使用同一所述图案形成装置来在一种测试衬底上印刷一种测试图案；

比较所印刷的测试图案和所印刷的基准图案，以检测出所述图案形成装置中的缺陷，

所述基准图案被印刷在基准衬底上的多个不同位置上；

在比较已印刷的测试图案和已印刷的基准图案中，通过至少一个光学缺陷检查工具来扫描已形成图案的测试衬底和基准衬底；

多个比较发生在多个已印刷的基准图案和多个已印刷的测试图案之间；

多数表决确定在图案形成装置中缺陷的位置；

所述测试衬底就是所述基准衬底；

在利用所述图案形成装置来在基准衬底上印刷一种基准图形之前，所述基准衬底是由抗蚀涂层覆盖，其中在基准衬底上印刷基准图形之后和在基准衬底上印刷测试图案之前，显影所述抗蚀涂层并且显示所印刷的基准图形。

2.如权利要求1所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：所述基准衬底是硅片。

3.如权利要求1或2所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：所述基准衬底是具有SiO₂层的硅片并且已经印刷的基准图案被蚀刻到SiO₂层中。

4.如权利要求1或2所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：所述所印刷的测试图案是显影的抗蚀涂层中的图案。

5.如权利要求1或2所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：单个印刷的基准图案是分隔开的，以便单个测试图案可以被印刷在每个单个印刷的基准图形的旁边。

6.如权利要求1所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：在比较已印刷的测试图案和已印刷的基准图案中，已形成图案的测试衬底和基准衬底分别通过光学缺陷检查工具同步进行扫描。

7.如权利要求1或2所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：所述图案形成装置是光刻处理掩模。

8.如权利要求1所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：在基准衬底上印刷基准图形之后和在基准衬底上印刷测试图案之前，基准衬底保持处于清洁的条件中。

9.如权利要求1或8所述的检测图案形成装置中的缺陷的方法，其特征在于：在显示所印刷的基准图形之后和在基准衬底上印刷测试图案之前，所述基准衬底是由抗蚀涂层覆盖。