[发明专利]含连接至子像素电极的晶体管的显示装置有效

专利信息
申请号: 200910006221.9 申请日: 2009-02-04
公开(公告)号: CN101566771A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 陆建钢;金成云;李承勋;金熙燮;高春锡;郑美惠;成始德;郑光哲 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G09G3/36;H01L21/84;H01L27/12
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 余 刚;章社杲
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 连接 像素 电极 晶体管 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示装置,包括:

第一栅极线和第二栅极线;

数据线,横穿所述第一栅极线和所述第二栅极线;

第一子像素电极;

第一晶体管,连接至所述第一栅极线、所述数据线、和 所述第一子像素电极;

第二子像素电极;

第二晶体管,连接至所述第一栅极线、所述数据线、和 所述第二子像素电极;

存储电容电极;

第三晶体管,连接至所述第一栅极线和所述存储电容电 极;

耦合电极,形成在所述存储电容电极上方,所述耦合电 极与所述第一子像素电极重叠,以形成升压电容器;以及

第四晶体管,连接至所述第二栅极线、所述耦合电极和 所述第二子像素电极。

2.根据权利要求1所述的显示装置,

其中,所述第三晶体管包括连接至所述耦合电极的源极 电极和连接至所述存储电容电极的漏极电极,而所述第四晶体 管包括连接至所述耦合电极的源极电极和连接至所述第二子 像素电极的漏极电极。    

3.根据权利要求2所述的显示装置,

其中,所述第三晶体管的漏极电极经由连接电极连接至 所述存储电容电极。

4.根据权利要求3所述的显示装置,

其中,所述第三晶体管的漏极电极和所述存储电容电极 由不同的金属层制成。

5.根据权利要求3所述的显示装置,

其中,所述第三晶体管的源极电极和所述第四晶体管的 源极电极由相同的金属层制成。

6.根据权利要求1所述的显示装置,

其中,所述存储电容电极与所述第一子像素电极重叠, 以形成第一存储电容器,而所述存储电容电极与所述第二子像 素电极重叠,以形成第二存储电容器。

7.根据权利要求5所述的显示装置,还包括:

第一辅助电极,与所述存储电容电极一起形成第一存储 电容器,并通过第一接触孔连接至所述第一子像素电极;以及

第二辅助电极,与所述存储电容电极一起形成第二存储 电容器,并通过第二接触孔连接至所述第二子像素电极。

8.根据权利要求1所述的显示装置,

其中,所述存储电容电极包括:第一部分,与所述第二 子像素电极重叠,以形成第二存储电容器;以及第二部分,具 有比所述第一部分更窄的宽度,并与所述第一子像素电极重 叠,以形成第一存储电容器。

9.根据权利要求8所述的显示装置,还包括:

第三辅助电极,与所述存储电容电极的第一部分一起形 成第二存储电容器;

其中,第三辅助电极通过接触孔连接至第二子像素电极。

10.一种制造显示装置的方法,所述方法包括形成:第一栅极线; 第二栅极线;数据线,横穿所述第一栅极线和所述第二栅极线; 第一子像素电极;第一晶体管,连接至所述第一栅极线、所述 数据线、和所述第一子像素电极;第二子像素电极;第二晶体 管,连接至所述第一栅极线、所述数据线、和所述第二子像素 电极;存储电容电极;第三晶体管,连接至所述第一栅极线和 所述存储电容电极;耦合电极,形成在所述存储电容电极上方, 所述耦合电极与所述第一子像素电极重叠,以形成升压电容 器;以及第四晶体管,连接至所述第二栅极线、所述耦合电极 和所述第二子像素电极。

11.根据权利要求10所述的方法,

其中,所述第三晶体管包括连接至所述耦合电极的源极 电极和连接至所述存储电容电极的漏极电极,而所述第四晶体 管包括连接至所述耦合电极的源极电极和连接至所述第二子 像素电极的漏极电极。

12.根据权利要求11所述的方法,

其中,所述第三晶体管的漏极电极经由连接电极连接至 所述存储电容电极。

13.根据权利要求12所述的方法,

其中,所述第三晶体管的漏极电极和所述存储电容电极 由不同的金属层制成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910006221.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top