[发明专利]实现自动虚拟量测的创新方法有效

专利信息
申请号: 200910006225.7 申请日: 2009-02-05
公开(公告)号: CN101581930A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 汪青蓉;林俊贤;赖志维;柯俊成;罗冠腾;左克伟;陈炳旭;余振华 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;H01L21/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 实现 自动 虚拟 创新 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体晶圆结果预测的方法,包含:

自多个半导体制造机台及量测机台收集制造资料;

根据所述制造资料使用自动关键参数萃取分析来选择关 键参数,所述自动关键参数萃取分析包括:

以阶层分群法分组多个制造参数;

合并所述多个制造参数以形成多个代表参数;以及

根据相对于机台资料的相关性,自所述多个代表参数 中选择所述关键参数;

其中,所述自动关键参数萃取分析还包括以主成分分 析加上逐步回归法来计算所述多个制造参数对于晶圆参 数的相关性;

根据所述关键参数建构虚拟量测;以及

利用所述虚拟量测预测晶圆结果。

2.根据权利要求1所述的方法,其中选出所述关键参数进一步包 含使用阶层分群法或使用相关距离做为选择门槛。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述制造资料包含错误侦测 与分类(FDC)资料。

4.根据权利要求3所述的方法,其中选择所述关键参数包含:

自所述分类资料收集用于所述多个制造参数的时序资 料;

转换所述时序资料为总结资料;以及

对所述总结资料进行自动关键参数萃取分析以选择所述 关键参数。

5.根据权利要求4所述的方法,其中所述总结资料自下列组成的 群组选出:平均值、最大值、最小值、标准差、以及其组合。

6.根据权利要求4所述的方法,其中所述多个制造参数包含主动 参数及被动参数。

7.根据权利要求1所述的方法,其中所述关键参数的其中之一为 所述多个制造参数的一个子集合的一个函数或与晶圆错误的 一个根本原因相关。

8.根据权利要求1所述的方法,其中收集所述制造资料进一步包 含:

自所述制造资料定义好的资料及坏的错误侦测与分类 (FDC)资料;

通过对所述好及坏的资料执行预先处理以强化异常机台 参数撷取率;以及

根据所述好及坏的资料间的n个标准差来进行自我分类 分析。

9.一种晶圆结果预测系统,包含:

资料收集模块,自多个半导体制造机台及量测机台收集 制造资料;

关键参数模块,根据所述制造资料使用自动关键参数萃 取分析来选择关键参数,所述自动关键参数萃取分析包含:

以阶层分群法分组多个制造参数;

合并所述多个制造参数以形成多个代表参数;以及

根据相对于机台资料的相关性,自所述多个代表参数 中选择所述关键参数;

其中所述关键参数萃取分析还包含以主成分分析加 上逐步回归法来计算所述多个制造参数对于晶圆参数的 相关性;

虚拟量测模块,使用两阶段的混合虚拟量测模型,其包 含:

第一模块,根据制造资料来决定物理参数;以及

第二模块,根据所述物理参数及所述制造资料来决定 电性参数。

10.根据权利要求9所述的晶圆结果预测系统,其中所述电性参数 的其中之一以所述制造参数或所述物理参数表示。

11.根据权利要求9所述的晶圆结果预测系统,进一步包含评估模 块,以根据预定准则来评量用于晶圆验收的所述电性参数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910006225.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top