[发明专利]一种用于高温熔体过滤的离心转子有效
申请号: | 200910008119.2 | 申请日: | 2009-02-27 |
公开(公告)号: | CN101816983A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 史志铭;杜茂华;李进福;梁振声 | 申请(专利权)人: | 史志铭 |
主分类号: | B04B7/10 | 分类号: | B04B7/10;B04B7/16;B01D39/20;C22B9/02 |
代理公司: | 呼和浩特北方科力专利代理有限公司 15100 | 代理人: | 何淑珍 |
地址: | 010051 内蒙古自治区呼*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 高温 过滤 离心 转子 | ||
技术领域:
本发明涉及一种转子,尤其是涉及一种用于过滤高温熔体中夹杂 物的离心转子,用于过滤金属及合金熔体中的夹杂物、非金属熔体中 的夹杂物以及有机高分子高温熔体中的夹杂物,属于冶金、铸造、高 分子材料加工领域。
背景技术:
金属和合金熔体以及非金属熔体中的元素极易与氧发生反应,生 成氧化物如氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化锌、氧化钛等。另外在熔 炼过程中,不可避免混杂一些夹杂物,如硅酸盐、硅铝酸盐、尖晶石 等。由于它们通常与高温熔体的润湿性较差,尽管这些夹杂物在熔体 中所占的比例较小,但是夹杂物尺寸分布较宽,达到几个微米-上百 微米的量级。此外,有机高分子高温熔体中含有的夹杂物也同样影响 它们的物理性能和化学性能。这些夹杂物会显著降低材料的力学性能 和加工性能,特别是那些大尺寸的夹杂物。
目前在该领域消除夹杂物的方法主要是采用多孔陶瓷过滤板过 滤、陶瓷纤维布过滤、玻璃纤维布过滤等,但是多孔陶瓷过滤板主要 采用泡沫陶瓷,由于其具有细而曲折的通道,过滤速度较慢,过滤效 率较低。另外,泡沫陶瓷的孔径最小也在毫米量级,只能过滤10微 米以上的夹杂物。对尺寸在10微米以下的夹杂物没有过滤效果。而 采用纤维过滤布的方式不能适合大流量熔体过滤的目的。目前也有专 利提出了用于铝合金熔体过滤夹杂物的离心过滤设备和技术,可以过 滤10微米以下的夹杂物,但是该设备使用陶瓷颗粒作为过滤介质层, 在过滤熔体量较大时,容易堵孔,过滤速度较慢,陶瓷颗粒过滤介质 层的更换比较困难。同样,也有将陶瓷颗粒过滤介质层做成“S”型 通道用于过滤铝合金熔体的专利技术,但是该过滤方法也具有上述的 困难。而在非金属熔体过滤和有机高分子熔体过滤方面,目前也没有 一种过滤效率和过滤效果较高的离心过滤技术。
发明内容:
本发明的目的在于提供一种用于高温熔体过滤技术的一种离心 转子,用于过滤金属及合金熔体、非金属熔体中的夹杂物,以及有机 高分子高温熔体中的夹杂物,从而改善它们的物理性能、化学性能、 力学性能和加工性能。
本发明的目的由如下技术方案实施:一种高温熔体的离心过滤转 子是由过滤介质层组成的容器作为离心过滤转子;或其由过滤介质层 组成的容器及离心支架组成离心过滤转子;或其由过滤介质层组成的 容器及离心套筒组成离心过滤转子;或其由过滤介质层组成的容器及 离心支架及离心套筒组成离心过滤转子;或其由管状结构的过滤介质 层和离心套筒组成离心过滤转子。其中所述过滤介质层的材料的选择 根据高温熔体的性质而定。
所述过滤介质层的孔径为30微米-2.5毫米,孔隙率为10%- 90%,厚度为0.2毫米-50毫米。
所述过滤介质层的材料为玻璃纤维布、或合金丝网、或无机材料 纤维布、或无机材料纤维毡、或无机材料纤维毯、或碳纤维编织布、 或多孔陶瓷的任意一种。
本发明涉及的高温熔体为金属及合金熔体、非金属熔体和有机高 分子熔体,由于各种熔体的性质相差很大,因此它们所处的温度相差 也很大。本发明所涉及的高温熔体,其温度大约在100℃-1650℃的范 围。根据熔体所处温度的不同,离心过滤转子所采用的材料也不同。 所述高分子材料、锡和硒等的熔体温度一般为100-300℃,过滤介质 可以使用的材料为玻璃纤维、或耐热合金、或无机材料纤维、或碳纤 维、或多孔陶瓷的任意一种;所述高温熔体为铝及铝合金、镁及镁合 金、锌及锌合金和铅及铅合金等的熔体温度一般为300-700℃,过滤 介质可以使用的材料为玻璃纤维、耐热合金、或无机材料纤维、或碳 纤维、或多孔陶瓷的任意一种;所述高温熔体为钕、锗、镧、铈、铜、 银等熔体的温度一般为700-1400℃,过滤介质可以使用的材料为玻璃 纤维、耐热合金、或无机材料纤维、或碳纤维、或多孔陶瓷的任意一 种;所述高温熔体为钢、铸铁、硅、钛及钛合金熔体等的温度一般为 1400-1650℃,所述过滤介质可以使用的材料为无机材料纤维、或碳 纤维或多孔陶瓷的任意一种。
任意一种所述过滤介质层与任意一种所述离心支架配合,或任意 一种所述过滤介质层与所述离心套筒配合,或任意一种所述过滤介质 层与所述离心支架和所述离心套筒配合。
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