[发明专利]舟形构件

说明书

技术领域

本发明涉及批(batch)式热处理装置中、搭载并支持基板的舟形构件 (boat)。更详细地，本发明涉及批式热处理装置中、为了能够在热处理的 进行过程中防止基板因自身载荷变形而包括支持基板的长边侧的第一及第 二支持道的舟形构件。

背景技术

在平板显示器的制造时使用的大面积基板的处理系统，分为蒸镀装置 和退火装置。

蒸镀装置是负责形成作为平板显示器的核心结构的透明传导层、绝缘 层、金属层还有硅层的阶段的装置，例如有LPCVD(低压化学气相淀积： Low Pressure Chemical Vapor Deposition)或PECVD(等离子增强化 学气相淀积：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)这样的化 学气相蒸镀装置和溅射(sputtering)这样的物理性气相蒸镀装置。另外， 退火装置作为负责蒸镀工序后提高被蒸镀的膜的特性的阶段的装置，例如 有用于对被蒸镀的膜进行决定或相变的热处理装置。

通常，在热处理装置中，存在对一个基板执行热处理的单片式和对多 个基板执行热处理的批式。单片式具有装置的结构简单这一优点，但是由 于存在生产力低下这一缺点，所以为了大量生产，批式受到瞩目。

在批式热处理装置中，在提供对多个基板能够同时进行热处理的热处 理空间的室内，搭载并支持多个基板的舟形构件是必需的。

另一方面，随着最近平板显示器的尺寸增加，对稳定地搭载并支持大 面积的基板的舟形构件的需求愈发增加。特别是，在以往的舟形构件中， 存在以下问题：即在热处理过程中由于基板的自身载荷而发生如基板的折 曲等的变形，平板显示器的显示特性下降或不均匀。

发明内容

因此，为了解决上述问题而完成的本发明的目的在于提供一种舟形构 件，在对搭载于批式热处理装置上的多个基板执行热处理工序时，通过由 第一及第二道支持被搭载的基板的长边侧来分散基板的载荷，从而防止基 板的变形。

为了达到上述目的，本发明所涉及的舟形构件配置在室内，并搭载了 多个基板，上述室提供用于由批式热处理装置执行热处理工序的空间，上 述舟形构件的特征在于，包括：下部框架；上部框架；以及多个垂直框架， 与上述下部框架及上述上部框架连接，形成有在上述搭载的基板的内侧方 向上延伸的多个第一支持道；还包括：第二支持道，与上述各垂直框架的 第一支持道相互连接。

在此，优选上述第一支持道和上述第二支持道相互垂直。

另外，优选上述第一支持道和上述第二支持道支持上述基板的长边侧。

另外，优选上述基板与上述第一支持道及上述第二支持道之中的至少 一个接触并被支持。

进而，优选上述基板与上述第一支持道及第二支持道同时接触并被支 持。

发明效果：

根据本发明，通过具备支持被搭载在批式热处理装置的舟形构件上的 基板的长边侧的第一及第二道，在进行对基板的热处理工序时，有分散基 板的载荷并防止基板的变形的效果。另外，根据本发明，能够对于在批式 热处理装置的舟形构件上所搭载的基板，使基板没有变形地进行热处理工 序，所以有提高在基板上形成的平板显示器的显示特性的效果。

附图说明

图1是表示本发明的一个实施方式所涉及的舟形构件的结构的立体图。

图2是表示本发明的一个实施方式所涉及的舟形构件的第一及第二支 持道的结构的立体图。

图3是表示在本发明的一个实施方式所涉及的舟形构件上搭载了基板 的状态的立体图。

符号说明

10     基板

100    舟形构件

110    下部框架

120    上部框架

200    垂直框架

210    第一支持道

220    第二支持道

具体实施方式

以下，参照附图详细说明本发明的结构。