[发明专利]用于硬盘驱动器应用的气垫设计无效

专利信息
申请号: 200910008381.7 申请日: 2009-02-26
公开(公告)号: CN101521020A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 郑国强;丰田祥儿;车泰昊;冯铸;柯林斯·李 申请(专利权)人: SAE磁学(香港)有限公司
主分类号: G11B5/60 分类号: G11B5/60;G11B21/21
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 吴 艳
地址: 中国香港新界沙*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要:
搜索关键词: 用于 硬盘驱动器 应用 气垫 设计
【权利要求书】:

1.一种空气动力学上稳定的滑块,其使得硬盘驱动器操作过程中的润滑剂积聚最小化,所述滑块包括:

面对可旋转的盘的被润滑表面的气垫表面侧,在所述盘的旋转过程中在所述气垫表面侧与所述盘的被润滑表面之间形成移动的空气层;和

在所述气垫表面侧内形成的形貌,在所述盘的旋转过程中,所述形貌在所述移动的空气层中产生气流流谱,所述气流流谱产生稳定的空气动力学滑块性能,并且所述气流流谱将来自所述被润滑的盘的所有润滑剂从所述气垫表面形貌排出,从而在所述形貌内不发生润滑剂积聚。

2.如权利要求1所述的滑块,其中,所述形貌包括:

气垫表面,具有大致矩形周边,所述周边的一个边缘是后边缘,该后边缘同时也是所述滑块的后边缘面的一个边缘,所述后边缘面在相对于所述气垫表面竖直的方向上由所述气垫表面垂直向上延伸;

一对大致平行的侧轨,它们的外边缘形成所述气垫表面周边的垂直于所述后边缘的平行边缘;

一对对称地设置的平行空气通道槽,它们穿过所述气垫表面以及穿过所述后边缘面形成,在所述后边缘面处,它们形成开口,所述槽沿从所述后边缘面向所述滑块的前边缘垂直向后的方向延伸,在达到所述前边缘之前终止,并且所述槽竖直向下延伸以形成大致平行于所述气垫表面的底面,其中每个所述槽具有大致平行、竖直的内侧壁和外侧壁,每个所述槽的所述内侧壁彼此最相近,并且所述一对外侧壁中的每一个形成所述侧轨的内侧壁;

由所述空气通道槽的所述内侧壁之间的区域形成的中心轨,在所述中心轨的后边缘中嵌入有转换元件,其中所述中心轨的竖直侧壁由所述槽的内侧壁形成;和

形成在所述槽内的后向流阻断元件。

3.如权利要求2所述的滑块,其中,所述后向流阻断元件消除将润滑剂送入所述气垫表面形貌的气流流谱。

4.如权利要求2所述的滑块,其中,所述后向流阻断元件建立了能够将所有润滑剂从所述气垫表面形貌中排出并使会发生润滑剂积聚的气流停滞区域消除的气流流谱。

5.如权利要求2所述的滑块,其中,所述后向流阻断元件是从所述空气通道槽的下表面竖直向上延伸至低于所述气垫表面的高度的几何形式。

6.如权利要求2所述的滑块,其中,所述后向流阻断元件是形成在所述槽的侧壁内的几何形式。

7.如权利要求5所述的滑块,其中,所述后向流阻断元件具有大致梯形的形状,并形成在每个空气通道槽中,位于处在所述滑块的所述后边缘上并在所述中心轨与所述槽的外侧壁之间的位置上。

8.如权利要求6所述的滑块,其中,所述后向流阻断元件具有三角形形状。

9.如权利要求5所述的滑块,其中,所述后向流阻断元件的高度小于大约5微米。

10.如权利要求1所述的滑块,其中,在形成所述后向流阻断元件之前,所述形貌被调整以获得最佳空气动力学稳定性。

11.如权利要求10所述的滑块,其中,在添加所述后向流阻断元件之后,所述滑块经测试保持了空气动力学稳定性。

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