[发明专利]微透镜制造方法和固态图像传感器制造方法

权利要求书

1.一种微透镜制造方法，包括：

通过在形成于基板上的微透镜形成膜上压上其中形成有 微透镜的反转形状的微透镜模，以将所述微透镜的反转形状转 印到所述微透镜形成膜上，形成微透镜；

其中，通过用曝光光束通过相对的二维扫描来照射形成 在模基板上的无机抗蚀膜，并蚀刻所述无机抗蚀膜的露出区域 以形成所述微透镜的反转形状，形成所述微透镜模；以及

基于所述微透镜的反转形状的轮廓数据，所述曝光光束 的照射强度被调节为对应于所述微透镜的反转形状从所述无 机抗蚀膜的表面起的深度。

2.根据权利要求1所述的微透镜制造方法，其中，当用所述曝光 光束相对地二维扫描所述无机抗蚀膜时，每当其上已形成有所 述无机抗蚀膜的所述基板沿垂直于X轴方向的Y轴方向移动 时，执行沿X轴方向用所述曝光光束的扫描。

3.根据权利要求1所述的微透镜制造方法，其中，通过控制所述 无机抗蚀膜的蚀刻条件来控制所述微透镜的反转形状的深度。

4.根据权利要求1所述的微透镜制造方法，其中，在所述无机抗 蚀膜中形成多个微透镜的反转形状。

5.一种微透镜制造方法，包括：

通过在形成于基板上的微透镜形成膜上压上其中形成有 微透镜的反转形状的微透镜模，以将所述微透镜的反转形状转 印到所述微透镜形成膜上，形成微透镜；

其中，通过用曝光光束照射形成在模基板上的无机抗蚀 膜，并蚀刻所述无机抗蚀膜的露出区域以形成所述微透镜的反 转形状，形成所述微透镜模；以及

当用所述曝光光束照射所述无机抗蚀膜时，使用插入到 所述曝光光束的光路中的空间调制器，将所述曝光光束调制为 对应于所述微透镜的反转形状的光束轮廓。

6.根据权利要求5所述的微透镜制造方法，其中，在无机抗蚀膜 中形成多个微透镜的反转形状。

7.一种固态图像传感器制造方法，包括：

在光接收部的入射侧上形成微透镜，用于入射光的光电 转换，所述微透镜用于使所述入射光会聚到所述光接收部上；

其中，通过在形成于所述光接收部的入射侧上的微透镜 形成膜上压上其中形成有微透镜的反转形状的微透镜模，以将 所述微透镜的反转形状转印到所述微透镜形成膜上，形成所述 微透镜；

通过用曝光光束通过相对的二维扫描来照射形成在模基 板上的无机抗蚀膜，并蚀刻所述无机抗蚀膜的露出区域以形成 所述微透镜的反转形状，形成所述微透镜模；以及

基于所述微透镜的反转形状的轮廓数据，所述曝光光束 的照射强度被调节为对应于所述微透镜的反转形状从所述无 机抗蚀膜的表面起的深度。

8.一种固态图像传感器制造方法，包括：

在光接收部的入射侧上形成微透镜，用于入射光的光电 转换，所述微透镜用于使所述入射光会聚到所述光接收部上；

其中，通过在形成于所述光接收部的入射侧上的微透镜 形成膜上压上其中形成有微透镜的反转形状的微透镜模，以将 所述微透镜的反转形状转印到所述微透镜形成膜上，形成所述 微透镜；

通过用曝光光束照射形成在模基板上的无机抗蚀膜，并 蚀刻所述无机抗蚀膜的露出区域以形成所述微透镜的反转形 状，形成所述微透镜模；以及

当用所述曝光光束照射所述无机抗蚀膜时，使用插入到 所述曝光光束的光路中的空间调制器，将所述曝光光束调制为 对应于所述微透镜的反转形状的光束轮廓。