[发明专利]分离膜无效
| 申请号： | 200910009989.1 | 申请日： | 2005-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN101502760A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 相泽正信 | 申请（专利权）人： | 三菱化学株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/02 | 分类号： | B01D71/02;B01D53/22;B01D69/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分离 | ||
1.一种分离膜，其包括多孔基体和在该多孔基体表面成膜的沸石薄膜， 所述多孔基体为主要成分包括氧化铝的陶瓷烧结材料，其中，
上述多孔基体具有基层和在该基层表面形成的上述沸石薄膜的底层，
上述底层的平均细孔径小于上述基层的平均细孔径。
2.权利要求1中所述的分离膜，其中，上述多孔基体的氮气透过速度为 200～7000m3/(m2·hr·atm)。
3.权利要求2中所述的分离膜，其中，上述氮气透过速度为400～7000m3/ (m2·hr·atm)。
4.权利要求1至3中任意一项所述的分离膜，其中，上述基层的平均细 孔径为4～12μm，上述底层的平均细孔径为0.4～1.2μm。
5.权利要求1至4中任意一项所述的分离膜，其中，上述基层的厚度为 1～3mm。
6.权利要求1至5中任意一项所述的分离膜，其中，上述底层的厚度为 10～200μm。
7.权利要求1至6中任意一项所述的分离膜，其中，构成上述底层的粒 子的纵横比为1.05以上。
8.权利要求1至6中任意一项所述的分离膜，其中，构成上述底层的粒 子的纵横比为1.2以上。
9.权利要求1至8中任意一项所述的分离膜，其中，上述多孔基体的气 孔率为20～50％。
10.权利要求1至8中任意一项所述的分离膜，其中，上述多孔基体的 气孔率为35～40％。
11.权利要求1至10中任意一项所述的分离膜，其中，按照水泡点法测 定的上述多孔基体的最大细孔径为9μm以下。
12.权利要求1至10中任意一项所述的分离膜，其中，按照水泡点法测 定的上述多孔基体的最大细孔径为7μm以下。
13.权利要求1至12中任意一项所述的分离膜，其中，上述多孔基体含 有的Ca和K的总含有率为0.8mol％以下。
14.权利要求1至12中任意一项所述的分离膜，其中，上述多孔基体含 有的Ca和K的总含有率为0.5mol％以下。
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