[发明专利]一种在锆铝碳陶瓷表面形成硅化物涂层的方法无效
申请号: | 200910010565.7 | 申请日: | 2009-03-04 |
公开(公告)号: | CN101823900A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 周延春;何灵峰;包亦望 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C04B41/85 | 分类号: | C04B41/85 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 锆铝碳 陶瓷 表面 形成 硅化物 涂层 方法 | ||
1.一种在锆铝碳陶瓷表面形成硅化物涂层的方法,其特征在于:用硅粉和氟化钠粉混合而成的固体粉末混合物为渗料,将锆铝碳陶瓷材料包埋在渗料中,在惰性气体保护下,以5~30℃/min的升温速度、在900~1300℃条件下、保温0.5~5小时,进行热扩散处理,然后炉冷至室温,即在样品表面形成以二硅化锆-碳化硅涂层。
2.按照权利要求1所述的在锆铝碳陶瓷表面形成硅化物涂层的方法,其特征在于:按重量百分计,所述粉末混合物的组成为:硅粉95~99%,氟化钠1~5%。
3.按照权利要求1所述的在锆铝碳陶瓷表面形成硅化物涂层的方法,其特征在于:二硅化锆-碳化硅涂层的厚度为2~150微米。
4.按照权利要求1所述的在锆铝碳陶瓷表面形成硅化物涂层的方法,其特征在于:所述硅粉纯度≥99.00wt%,粒度≤0.2毫米;氟化钠为分析纯。
5.按照权利要求1所述的在锆铝碳陶瓷表面形成硅化物涂层的方法,其特征在于:所述惰性气体为纯度≥99.99%的氩气。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院金属研究所,未经中国科学院金属研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910010565.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种裂解有机硅高沸物制备甲基氯硅烷的方法
- 下一篇:一种专用钛白粉的生产方法