[发明专利]一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法

权利要求书

1、一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，主要由无机材料包覆、熔融共混、冷却切粒等工艺组成，其特征是：采用无机纳米碳酸钙颗粒为载体在表面包覆剂的作用下与抗菌剂混合后制得无机纳米抗菌母粒，将光降解剂、制备好的抗菌母粒与烯烃类原料、增溶剂、增塑剂、交联剂、分散剂按一定比例在170-180℃的温度下经双螺杆机熔融共混，在烯烃类原料的主链上引入光降解剂，冷却后切粒制得高性能合成型光降解抗菌塑料，所制得的高性能合成型光降解抗菌塑料密度1.05-1.3g/cm³，拉伸强度≥15MPa，断裂伸长率≥400％，分解度≥99％。

2、根据权利要求1所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述抗菌剂为日柏醇、氨基葡糖苯的一种或两种。

3、根据权利要求1所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述表面包覆剂为硬脂酸、硬脂酸钠、十二烷基苯磺酸钠的一种或几种。

4、根据权利要求1、2、3所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述抗菌母粒中无机纳米碳酸钙颗粒与表面包覆剂、抗菌剂配比为80∶1.5∶1。

5、根据权利要求1所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述光降解剂为四苯甲酮、硬脂酸铈、硬脂酸铝的一种或几种。

6、根据权利要求1所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述增溶剂为聚乙烯蜡、氯化聚丙烯、接枝聚丙烯的一种或几种。

7、根据权利要求1所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述增塑剂为多元醇苯甲酸酯、邻苯二甲酸二甲酯的一种或两种。

8、根据权利要求1所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述交联剂为有机过氧化物、乙烯基硅氧烷的一种或两种。

9、根据权利要求1所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述分散剂为羟基乙叉二磷酸、羟基乙叉二磷酸钠的一种或两种。

10、根据权利要求1、4、5、6、7、8、9所述的一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，其特征是：所述光降解剂、抗菌母粒、烯烃类原料、增溶剂、增塑剂、交联剂、分散剂的配比为0.3∶1∶100∶0.5∶0.5∶0.5∶0.5。