[发明专利]6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片无效
申请号: | 200910020391.2 | 申请日: | 2009-04-29 |
公开(公告)号: | CN101540360A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 徐现刚;夏伟;苏建 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250101山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | sic 基底 极性 algainp led 芯片 | ||
1.一种6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片,包括基底和基底上的外延层,其特征是:以6H-SiC材料作为基底,外延层由上至下依次为N型AlGaInP层、发光层、P型AlGaInP层、P型GaP层和金属反射及粘结层,在N型AlGaInP层上设置N型电极,在6H-SiC基底的底面或金属反射及粘结层上设置P型电极。金属反射及粘结层包括一层粘接层和一个金属反射镜。
2.根据权利要求1所述的6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片,其特征是:6H-SiC材料是导电6H-SiC单晶或绝缘6H-SiC单晶。
3.一种权利要求1所述6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片的制作工艺,其特征是:包括以下步骤:
(1)首先在GaAs基底上生长外延结构,按常规由下至上依次外延生长N型AlGaInP层、发光层、P型AlGaInP层和P型GaP层,制成外延层;
(2)在经过抛光的6H-SiC基底上蒸镀金属反射及粘结层,金属反射及粘结层包括一层粘接层和一个金属反射镜;
(3)在200℃~400℃加热、小于1Torr的真空及30PSI~80PSI的静压的条件下将步骤(1)制备的外延层中P型GaP层与步骤(2)中的金属反射及粘结层对接;
(4)选择性腐蚀掉GaAs基底;
(5)在N型AlGaInP层上制作N型电极,在6H-SiC基底的底面或金属反射及粘结层上制作P型电极。
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