[发明专利]6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片无效

专利信息
申请号: 200910020391.2 申请日: 2009-04-29
公开(公告)号: CN101540360A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 徐现刚;夏伟;苏建 申请(专利权)人: 山东华光光电子有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250101山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: sic 基底 极性 algainp led 芯片
【权利要求书】:

1.一种6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片,包括基底和基底上的外延层,其特征是:以6H-SiC材料作为基底,外延层由上至下依次为N型AlGaInP层、发光层、P型AlGaInP层、P型GaP层和金属反射及粘结层,在N型AlGaInP层上设置N型电极,在6H-SiC基底的底面或金属反射及粘结层上设置P型电极。金属反射及粘结层包括一层粘接层和一个金属反射镜。

2.根据权利要求1所述的6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片,其特征是:6H-SiC材料是导电6H-SiC单晶或绝缘6H-SiC单晶。

3.一种权利要求1所述6H-SiC基底反极性AlGaInP LED芯片的制作工艺,其特征是:包括以下步骤:

(1)首先在GaAs基底上生长外延结构,按常规由下至上依次外延生长N型AlGaInP层、发光层、P型AlGaInP层和P型GaP层,制成外延层;

(2)在经过抛光的6H-SiC基底上蒸镀金属反射及粘结层,金属反射及粘结层包括一层粘接层和一个金属反射镜;

(3)在200℃~400℃加热、小于1Torr的真空及30PSI~80PSI的静压的条件下将步骤(1)制备的外延层中P型GaP层与步骤(2)中的金属反射及粘结层对接;

(4)选择性腐蚀掉GaAs基底;

(5)在N型AlGaInP层上制作N型电极,在6H-SiC基底的底面或金属反射及粘结层上制作P型电极。

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