[发明专利]浸渍下沉镀膜装置

权利要求书

1.一种浸渍下沉镀膜装置，其特征在于：包括下箱体以及设置在下箱体内的带有阀门的滴漏装置，在下箱体上设置有支撑轴(20)，支撑轴(20)上套装有工作轴(19)，工作轴(19)上设置有固定基片(15)用的基片夹具(18)，基片夹具(18)的正下方设置有盛水的容器(11)，且滴漏装置与该容器(11)相连通，在容器(11)内放置有漂浮台(13)，且在漂浮台(13)上开设有用于放置烧杯(12)的凹槽。

2.根据权利要求1所述的浸渍下沉镀膜装置，其特征在于：所说的下箱体包括下基板(1)以及通过下基板支撑轴(8)与下基板(1)连为一体的上基板(10)。

3.根据权利要求1或2所述的浸渍下沉镀膜装置，其特征在于：所说的滴漏装置包括安装在上基板(10)上与容器(11)相连通的上滴漏管(6)，上滴漏管(6)的下端依次连接有中间容器(5)和下滴漏管(3)，且在上、下滴漏管(6、3)上分别设置有上、下滴漏阀门(7、4)，在下滴漏管(3)的下端还设置有接水容器(2)。

4.根据权利要求1所述的浸渍下沉镀膜装置，其特征在于：所说的基片夹具(18)上还设置有紧固螺栓(17)。

5.根据权利要求1所述的浸渍下沉镀膜装置，其特征在于：相邻两基片(15)之间设置有垫片(14)，且在最外侧两垫片(14)外侧还设置有磁铁片(16)。