[发明专利]下沉镀膜机

说明书

技术领域

本发明属于纳米材料制备技术，具体涉及一种用于纳米薄膜制备的下沉镀膜机。

背景技术

溶胶-凝胶法制备薄膜的工艺通常有：旋转涂覆法，浸渍提拉法。旋转涂覆法是将溶胶滴在基片上，基片固定在一个高速绕自身中心旋转的平台上，在旋转的过程中，溶胶就会涂覆在基片上了。但是这种方法有一定的局限性，仅适用于在平面基片上成膜，受离心力及基片半径等因素的影响，薄膜的均匀度不是很高，而且此种镀膜工艺对溶胶的利用率不高，一次性镀膜基片数量少，效率不高。

浸渍提拉法是把固定在提拉板上的基片浸渍在溶胶中，基片在提拉机的拉力作用下缓慢匀速上升，溶胶均匀的涂覆在基片上。但是此工艺也有不足之处：基片在提拉过程中易受环境因素而产生摆动，会使膜厚不均，影响薄膜质量。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供了一种具有下沉速度稳定，速度控制范围广，操作方便简单，能够方便、快速、大批量、大面积的制备均匀薄膜而且还可以实现任意形状的均匀镀膜的下沉镀膜机。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：包括支撑架以及设置在支撑架上的直线可逆往返电机，直线可逆往返电机的输出轴上固定有用于承载装溶胶容器的支架，在支撑架上还设置有支撑轴，支撑轴上连接有位于支架上端可转动的连接轴，在连接轴上套装有可沿连接轴移动的夹持镀膜用基片的夹具；所述的支撑架包括用于放置直线可逆往返电机的底座，以及设置在底座上的用于固定直线可逆往返电机的侧固定钢板和上固定钢板，且在底座及上固定钢板上还分别开设有直径大于输出轴的直径的孔，且底座的孔的深度略大于直线电机的最大行程。

本发明的夹具包括用于夹持基片的左右钢板，左右钢板通过固定螺母设置在连接轴上并能够沿连接轴移动，且在右钢板上开设有一用于安装螺栓的螺孔；在相邻的两个所述的基片之间还设置有垫片。

本发明是根据相对运动的原理而提出的浸渍镀膜方法。即不采取基片向上运动的方式，而采用溶胶液面下降的方式来实现在基片上镀膜。下沉镀膜机的优点在于避免了基片在提拉过程中受环境因素影响易摆动而造成薄膜厚度不均的问题，而且实现了目前一次性大批量镀膜的效果，可在任意形状的基片上实现均匀镀膜，方便、快捷、高效。

附图说明

图1是本发明的整体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作进一步详细说明。

参见图1，本发明包括支撑架以及设置在支撑架上的直线可逆往返电机2，所说的支撑架包括用于放置直线可逆往返电机2的底座1，为了防止直线可逆往返电机2在工作过程中产生的轻微的震动，在底座1上设置有用于固定直线可逆往返电机2的侧固定钢板3和上固定钢板4，且在底座1及上固定钢板4上还分别开设有直径大于输出轴5的孔，且底座1的孔的深度略大于直线电机的最大行程，直线可逆往返电机2的输出轴5上固定有用于承载装溶胶容器8的支架6，在支撑架上还设置有支撑轴7，支撑轴7上连接有位于支架6上端可转动的连接轴15，连接轴15可以绕支撑轴7做360度旋转，以方便装卸基片。在连接轴15上套装有可沿连接轴15移动的夹持镀膜用基片9的夹具，所说的夹具包括用于夹持基片9的左右钢板11、12，左右钢板11、12通过固定螺母14设置在连接轴15上并能够沿连接轴15移动，且在右钢板12上开设有一用于安装螺栓13的螺孔，相邻两基片9之间还设置有垫片10。

由于基片固定牢靠，因此，在镀膜过程中，不会出现因基片摆动而造成薄膜质量较差的问题。

工作时，接通电源，启动直线可逆往返电机2，使电机2正转，直线电机2的输出轴5带动支架6及盛溶胶的容器8向上运动，使镀膜用基片9浸渍在溶胶中，电机反转，直线电机轴5带动支架6及容器8缓慢向下运动，从而在基片上均匀镀膜。